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1. (WO2007023639) 基板処理装置,基板処理装置の基板搬送方法,プログラム,プログラムを記録した記録媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/023639    国際出願番号:    PCT/JP2006/314837
国際公開日: 01.03.2007 国際出願日: 27.07.2006
予備審査請求日:    25.06.2007    
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/302 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KANEMARU, Hidetada [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KANEMARU, Hidetada; (JP)
代理人: OHYAMA, Hiroaki; Reo Akasaka Bldg. 5A 2-14, Akasaka 6-chome Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
優先権情報:
2005-244792 25.08.2005 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE TREATING APPARATUS, AND FOR THE SUBSTRATE TREATING APPARATUS, METHOD OF SUBSTRATE DELIVERY, PROGRAM AND PROGRAM STORING RECORDING MEDIUM
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE LIVRAISON DE SUBSTRAT, PROGRAMME ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT ET DE STOCKAGE DE PROGRAMME
(JA) 基板処理装置,基板処理装置の基板搬送方法,プログラム,プログラムを記録した記録媒体
要約: front page image
(EN)Attachments including a natural oxidation film are unfailingly removed so as to enhance the adhesion of film superimposed on a treatment object substrate by subsequent film forming treatment. Substrate treating apparatus (100) is equipped with common transfer chamber (102) commonly connected to treatment chambers (104A-104D) so as to conduct wafer carrying out from and carrying in the treatment chambers. The treatment chambers (104A-104D) are respectively constructed as a product formation treatment chamber (COR treatment chamber) for performing chemical reaction of attachments including a natural oxidation film on a wafer with a gas component to thereby form a product, product removing treatment chamber (PHT treatment chamber) for removing the product of attachments formed on the wafer by heat treatment, a Ti film forming treatment chamber for forming a Ti film on the wafer and a TiN film forming treatment chamber for forming a TiN film on the Ti film.
(FR)La présente invention concerne des fixations comprenant un film d'oxydation naturelle qui sont retirées sans problème de manière à améliorer l'adhérence du film superposé sur un substrat d'objet de traitement, par un traitement de formation de film consécutif. L'appareil de traitement de substrat (100) est équipé d'une chambre de transfert commune (102) reliée en commun avec les chambres de traitement (104A-104D) de manière à réaliser la sortie de tranche et l'entrée de tranche dans les chambres de traitement. Les chambres de traitement (104A-104D) sont respectivement conçues sous forme de chambres de traitement pour la formation de produits (chambres de traitement COR), destinées à réaliser la réaction chimique des fixations comprenant un film d'oxydation naturelle sur une tranche, avec un composant de gaz, pour ainsi former un produit, une chambre de traitement de retrait de produit (chambre de traitement PHT) pour retirer le produit des fixations formées sur la tranche par traitement à la chaleur, une chambre de traitement formant un film de Ti pour former un film de Ti sur la tranche et une chambre de traitement formant un film de TiN pour former un film de TiN sur le film Ti.
(JA) 自然酸化膜を含む付着物を確実に除去し,次の成膜処理によって被処理基板に形成される膜の密着性をより向上させる。  基板処理装置100は,処理室104A~104Dに共通に連結され,各処理室に対してウエハの搬出入を行う共通搬送室102を備える。各処理室104A~10Dはそれぞれ,ウエハ上の自然酸化膜を含む付着物とガス成分とを化学反応させて生成物を生成するための生成物生成処理室(COR処理室),ウエハ上に形成された付着物の生成物を熱処理により除去するための生成物除去処理室(PHT処理室),ウエハにTi膜を成膜するTi膜成膜処理室,Ti膜上にTiN膜を成膜するTiN膜成膜処理室として構成した。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)