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1. (WO2007023580) 基板の洗浄装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/023580    国際出願番号:    PCT/JP2006/301306
国際公開日: 01.03.2007 国際出願日: 27.01.2006
IPC:
H01L 21/304 (2006.01)
出願人: PRE-TECH Co., Ltd. [JP/JP]; Keio-fuchu 2-chome Bldg., 1-14, Fuchu-cho 2-chome Fuchu-shi Tokyo 1830055 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAITO, Yosuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KATO, Masayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HARADA, Yasuyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAITO, Yosuke; (JP).
KATO, Masayuki; (JP).
HARADA, Yasuyuki; (JP)
代理人: YOSHIMIYA, Mikio; Uenosansei Bldg. 4F, 6-4, Motoasakusa 2-chome Taito-ku, Tokyo 1110041 (JP)
優先権情報:
2005-243956 25.08.2005 JP
発明の名称: (EN) CLEANING DEVICE FOR SUBSTRATE
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE POUR SUBSTRAT
(JA) 基板の洗浄装置
要約: front page image
(EN)A cleaning device (1) for a substrate, having a substrate support means (3) with an annular shape for supporting a substrate (9), and a cleaning liquid supply means (2) for supplying cleaning liquid (6) composed of pure water or chemical liquid to the substrate supported by the substrate support means. The substrate support means has positioning pins (4) for positioning the substrate while supporting an end surface of the substrate at three or more points, and a protrusion portion (5) where long and short protrusions (5a, 5b) are continuously arranged along the circumference of the lower surface of the substrate positioned by the positioning pins. When the substrate is cleaned by supplying the pure water or chemical liquid from the cleaning liquid supply means, a gap formed between the lower surface of the substrate supported by the positioning pins and the protrusion portion being is by the pure water or chemical liquid. When a substrate requiring high cleanliness level such as a semiconductor substrate is cleaned, the cleaning liquid is prevented from flowing to the surface opposite to the surface to be cleaned, and also particles can be prevented from staying locally to cause contamination.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de nettoyage (1) pour un substrat, le dispositif comportant un moyen de support du substrat (3) de forme annulaire, destiné à supporter un substrat (9), et un moyen d'alimentation en liquide de nettoyage (2), destiné à fournir au substrat supporté par le moyen de support du substrat un liquide de nettoyage (6) composé d'eau pure ou d'un liquide chimique. Le moyen de support du substrat comporte des goupilles de positionnement (4), destinées à positionner le substrat tout en soutenant la surface de l'extrémité du substrat en trois points ou davantage, et une partie en saillie (5), dans laquelle des saillies longues et courtes (5a, 5b) sont disposées tout autour de la circonférence de la surface inférieure du substrat positionné par les goupilles de positionnement. Quand le substrat est nettoyé en apportant l'eau pure ou le liquide chimique provenant du moyen d'alimentation en liquide de nettoyage, un espace est formé par l'eau pure ou le liquide chimique entre la surface inférieure du substrat supporté par les goupilles de positionnement et la partie en saillie. Lors du nettoyage d'un substrat nécessitant un niveau de propreté élevé tel qu'un substrat de semiconducteur, ce dispositif empêche le liquide de nettoyage de couler sur la surface qui fait face à la surface à nettoyer et il peut empêcher également des particules de rester à proximité en causant une contamination.
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)