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1. (WO2007010887) ガス処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/010887    国際出願番号:    PCT/JP2006/314147
国際公開日: 25.01.2007 国際出願日: 18.07.2006
IPC:
H01L 21/31 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MATSUSHIMA, Noriaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKAHASHI, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MATSUSHIMA, Noriaki; (JP).
TAKAHASHI, Tsuyoshi; (JP)
代理人: TAKAYAMA, Hiroshi; 7th Floor, Daiichi Shinwa Building 10-8, Akasaka 2-chome Minato-ku, Tokyo 107-0052 (JP)
優先権情報:
2005-208760 19.07.2005 JP
発明の名称: (EN) GAS TREATMENT APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU GAZ
(JA) ガス処理装置
要約: front page image
(EN)A film forming apparatus (100) is provided with a chamber (1) for storing a wafer; a placing table arranged in the chamber (1) to place the wafer; a shower head (4) arranged at a position facing the placing table for jetting a treatment gas into the chamber (1); and an exhaust mechanism for exhausting inside the chamber (1). The shower head (4) is provided with a center portion (46) whereupon a multitude of gas ejecting holes (45a, 45b) are formed for ejecting the treatment gas; and an outer circumference portion (47) which positions on the outer circumference side of the center portion (46) without having the gas ejecting ports (45a, 45b). The film forming apparatus (100) is further provided with a heat dissipating mechanism for dissipating heat of the shower head (4) from the entire circumference of the outer circumference portion (47) to the atmosphere side.
(FR)L’invention concerne un appareil de formation de film (100) pourvu d‘une chambre (1) permettant de loger une galette ; une table de placement disposée dans la chambre (1) pour placer la galette ; un pommeau de douche (4) occupant une position faisant face à la table de placement pour injecter un gaz de traitement dans la chambre (1) ; et un mécanisme d’échappement permettant un échappement à l’intérieur de la chambre (1). Le pommeau de douche (4) est pourvu d’une portion centrale (46) sur laquelle sont formés une multitude de trous d’éjection de gaz (45a, 45b) pour éjecter le gaz de traitement ; et d’une portion circonférentielle externe (47) située sur le côté de circonférence externe de la portion centrale (46) sans comprendre les trous d’éjection de gaz (45a, 45b). L’appareil de formation de film (100) est également doté d’un mécanisme de dissipation thermique permettant de dissiper la chaleur du pommeau de douche (4) depuis la circonférence entière de la portion circonférentielle externe (47) vers l’atmosphère.
(JA) 成膜装置100は、ウエハを収容するチャンバー1と、チャンバー1内に配置され、ウエハが載置される載置台と、載置台上と対向する位置に設けられ、チャンバー1内へ処理ガスを吐出するシャワーヘッド4と、チャンバー1内を排気する排気機構とを具備し、シャワーヘッド4は、処理ガスを吐出するための多数のガス吐出孔45a、45bが形成された中央部46と、中央部46の外周側に位置する、ガス吐出孔45a、45bの存在しない外周部47とを有し、成膜装置100は、シャワーヘッド4の熱を外周部47の全周から大気側に放熱する放熱機構をさらに具備する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)