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1. (WO2007010667) ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/010667    国際出願番号:    PCT/JP2006/309924
国際公開日: 25.01.2007 国際出願日: 18.05.2006
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/26 (2006.01), G03F 7/38 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MUROI, Masaaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ATSUCHI, Kota [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAMURA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMADA, Masakazu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAISYO, Kensuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MUROI, Masaaki; (JP).
ATSUCHI, Kota; (JP).
NAKAMURA, Takahiro; (JP).
YAMADA, Masakazu; (JP).
SAISYO, Kensuke; (JP)
代理人: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2005-212903 22.07.2005 JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCING POSITIVE-WORKING RESIST COMPOSITION, POSITIVE-WORKING RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION
(FR) PROCESSUS DE FABRICATION D’UNE COMPOSITION DE RÉSERVE FONCTIONNANT EN POSITIF, COMPOSITION DE RÉSERVE FONCTIONNANT EN POSITIF ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE
(JA) ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)This invention provides a process for producing a positive-working resist composition, comprising the step (I) of passing a positive-working resist composition, comprising a resin component (A), which causes an increase in alkali solubility through the action of an acid, and an acid generating agent component (B), capable of generating an acid upon exposure, dissolved in an organic solvent (S), through a filter (f1) provided with a nylon film. The resin component (A) is a copolymer comprising at least two types of constitutional units produced by allowing an acid to exist in the polymerization of at least one monomer. There are also provided a process for producing a positive-working resist composition, which can form a resist pattern which has been reduced in both bridge defects and reprecipitated defects, and a positive-working resist composition, and a method for resist pattern formation.
(FR)La présente invention concerne un processus de fabrication d‘une composition de réserve fonctionnant en positif, comprenant la phase (I) consistant à faire passer une composition de réserve fonctionnant en positif, contenant une composante de résine (A), provoquant une augmentation de la solubilité dans un produit alcalin par l’action d’un acide, et une composante d’agent de production d’acide (B), capable de produire un acide en cas d’exposition, dissoutes dans un solvant organique (S),à travers un filtre (f1) pourvu d’un film de nylon. La composante de résine (A) est un copolymère comprenant au moins deux types d’unités constitutives produit par l’introduction d’un acide dans la polymérisation d’au moins un monomère. L’invention concerne également un processus de fabrication d’une composition de réserve fonctionnant en positif, capable de former un motif de réserve dont on a réduit à la fois les défauts de pontage et de nouvelle précipitation, et une composition de réserve fonctionnant en positif et un procédé de formation de motif de réserve.
(JA) 本発明のポジ型レジスト組成物の製造方法は、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を有機溶剤(S)に溶解してなるポジ型レジスト組成物を、ナイロン製の膜を備えたフィルタ(f1)を通過させる工程(I)を有し、前記樹脂成分(A)が、少なくとも1種の単量体を重合させて製造する際に酸を存在させることにより得られる少なくとも2種の構成単位を有する共重合体である。本発明によれば、ブリッジ系ディフェクトおよび再析出系ディフェクトの両方が低減されたレジストパターンが形成できるポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)