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1. (WO2007007746) 露光装置及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/007746    国際出願番号:    PCT/JP2006/313758
国際公開日: 18.01.2007 国際出願日: 11.07.2006
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MIZUTANI, Takeyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OKUMURA, Masahiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOHNO, Hirotaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MIZUTANI, Takeyuki; (JP).
OKUMURA, Masahiko; (JP).
KOHNO, Hirotaka; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2005-201582 11.07.2005 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
(FR) APPAREIL D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光装置及びデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is an exposure apparatus (EX) comprising a first stage (WST) and a second stage (MST). A maintenance device (55) performs maintenance of the second stage (MST) during an exposure process of a wafer (W) held on the first stage.
(FR)La présente invention concerne un appareil d’exposition (EX) comprenant un premier étage (WST) et un second étage (MST). Un dispositif de maintenance (55) effectue la maintenance du second étage (MST) pendant le processus d’exposition d’une galette (W) maintenue sur le premier étage (WST).
(JA) 露光装置(EX)は、第1ステージ(WST)と、第2ステージ(MST)とを備える。メンテナンス装置(55)は、第1ステージに保持されたウェハ(W)の露光処理の最中に第2ステージ(MST)のメンテナンスを行う。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)