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1. (WO2007007570) 反射鏡およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/007570    国際出願番号:    PCT/JP2006/313125
国際公開日: 18.01.2007 国際出願日: 30.06.2006
IPC:
G02B 5/08 (2006.01)
出願人: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MORIMOTO, Tamotsu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWASAKI, Masato [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIYAZAWA, Hideaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MORIMOTO, Tamotsu; (JP).
KAWASAKI, Masato; (JP).
MIYAZAWA, Hideaki; (JP)
代理人: SENMYO, Kenji; Torimoto Kogyo Bldg. 38, Kanda-Higashimatsushitacho Chiyoda-ku, Tokyo 101-0042 (JP)
優先権情報:
2005-201541 11.07.2005 JP
発明の名称: (EN) REFLECTOR AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) RÉFLECTEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI
(JA) 反射鏡およびその製造方法
要約: front page image
(EN)This invention provides a reflector, which has high reflectance in a visible light region and has excellent moisture resistance and sulfur resistance, and a process for producing the same. The reflector (10) comprises a base material (11), a silicon nitride film (14), and a silver film (13) provided between the base material (11) and the silicon nitride film (14). When the reflector (10) is placed for 100 hr in an atmosphere containing 10 ppm of hydrogen sulfide and having a temperature of 50ºC and a relative humidity of 80%, the difference in luminous reflectance (chromaticity Y of tristimulus values specified in JIS Z 8701 (1982)) between before standing and after standing is not more than 10%. The process for producing a reflector (10) comprises forming a silver film (13) by sputtering and then forming a silicon nitride film (14) by chemical vapor deposition.
(FR)Cette invention met à disposition un réflecteur, qui a un facteur de réflexion élevé dans une région de lumière visible et a une excellente résistance à l'humidité et résistance au souffre, ainsi qu'un procédé de production de celui-ci. Le réflecteur (10) comprend un matériau de base (11), un film de nitrure de silicium (14), et un film d'argent (13) prévu entre le matériau de base (11) et le film de nitrure de silicium (14). Lorsque le réflecteur (10) est placé pendant 100 hr dans une atmosphère contenant 10 ppm de sulfure d'hydrogène et ayant une température de 50 ºC et une humidité relative de 80 %, la différence de facteur de réflexion (chromaticité Y de composantes trichromatiques spécifiées dans JIS Z 8701 (1982)) entre la période précédant l'exposition et celle suivant l'exposition n'excède pas 10 %. Le procédé de production d'un réflecteur (10) comprend la formation d'un film d'argent (13) par pulvérisation et ensuite la formation d'un film de nitrure de silicium (14) par dépôt chimique en phase vapeur.
(JA) 可視光領域での反射率が高く、耐湿性、耐硫黄性に優れる反射鏡およびその製造方法を提供する。  基材11と、窒化ケイ素膜14と、基材11と窒化ケイ素膜14との間に設けられた銀膜13とを有する反射鏡10であって、10ppmの硫化水素を導入し、温度50°C、相対湿度80%の雰囲気中に100時間反射鏡を放置した際、放置前の視感反射率(JIS Z 8701(1982年)に規定する三刺激値の色度Y)に対する放置後の視感反射率の変化率が、10%以内である反射鏡10。また、スパッタ法により銀膜13を形成した後、化学気相成長法により窒化ケイ素膜14を形成する反射鏡10の製造方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)