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1. (WO2007004612) 剥離液中の有機物濃度を管理した基体の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/004612    国際出願番号:    PCT/JP2006/313234
国際公開日: 11.01.2007 国際出願日: 03.07.2006
IPC:
H01L 21/304 (2006.01), B08B 3/08 (2006.01), G03F 7/42 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOAGOSEI CO., LTD. [JP/JP]; 14-1, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058419 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TSUDA, Takashi; (米国のみ).
SUMITA, Masanao; (米国のみ).
HARADA, Katsuyoshi; (米国のみ)
発明者: TSUDA, Takashi; .
SUMITA, Masanao; .
HARADA, Katsuyoshi;
代理人: TSUKUNI, Hajime; SVAX TS Bldg. 22-12, Toranomon 1-chome Minato-ku Tokyo 1050001 (JP)
優先権情報:
2005-195850 05.07.2005 JP
発明の名称: (EN) METHOD OF PRODUCING SUBSTRATE UNDER CONTROLLING ORGANIC MATTER CONCENTRATION IN STRIPPING LIQUOR
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT EN RÉGULANT LA CONCENTRATION EN MATIÈRES ORGANIQUES DANS LA SOLUTION DE DÉCAPAGE
(JA) 剥離液中の有機物濃度を管理した基体の製造方法
要約: front page image
(EN)A method of producing a substrate which comprises the stripping stage consisting of the step of treating a stripping liquor containing organic matters originating in a stripped coating dissolved therein to give a regenerated stripping liquor and the step of bringing fresh supplied stripping liquor and the regenerated stripping liquor into contact with a coating on a substrate, and the removal stage consisting of the step of washing with water the surface of the substrate from which the coating has been stripped off in the stripping stage and the step of drying the washed substrate with a drying air stream, wherein the organic matters remaining on the substrate after the removal stage is not more than a definite control level.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'un substrat qui comprend un stade de décapage, consistant en une étape de traitement d'une solution de décapage qui contient des matières organiques provenant d'un revêtement décapé qui y a été dissous afin d'obtenir une solution de décapage régénérée et en une étape de mise d'une solution de décapage fraîche et de la solution de décapage régénérée au contact d'un revêtement sur un substrat, et un stade d'élimination, consistant en une étape de lavage à l'eau de la surface du substrat d'où le revêtement a été décapé lors du stade de décapage et en une étape de séchage du substrat lavé par un courant d'air de séchage, les matières organiques restant sur le substrat après le stade d'élimination ne dépassant pas un seuil défini.
(JA) 剥離した被膜物質由来の有機物が溶解した剥離液を再生剥離液にする処理を行う工程と、新たに補充された剥離液と再生剥離液とを基体上の被膜物質に接触させて、基体から被膜物質を剥離する工程と、を含む剥離工程と、剥離工程により被膜物質が剥離された基体の表面を水で洗浄する工程と、洗浄された基体を乾燥空気により乾燥する工程と、を含む除去工程と、を含む基体の製造方法であって、除去工程が行われた基体上の有機物の残渣が、所定の管理値以下である基体の製造方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)