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1. (WO2007004516) フッ酸生成装置及びフッ酸生成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/004516    国際出願番号:    PCT/JP2006/313008
国際公開日: 11.01.2007 国際出願日: 29.06.2006
IPC:
C01B 7/19 (2006.01), B01D 3/00 (2006.01), C02F 1/28 (2006.01)
出願人: J-top service co. ltd [JP/JP]; 188-1, Higashihanda Naka-ku, Sakai-shi Osaka 5998275 (JP) (米国を除く全ての指定国).
Sakaikouhan co. ltd [JP/JP]; 9-8, Kitashouchou 1-cho, Sakai-ku, Sakai-shi Osaka, 5900007 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAKI, Jiichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKAKI, Jiichi; (JP)
代理人: ISOKANE, Tomoki; 1-25-808, Nishitemma 3-chome Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5300047 (JP)
優先権情報:
2005-191784 30.06.2005 JP
発明の名称: (EN) HYDROFLUORIC ACID PRODUCTION APPARATUS AND HYDROFLUORIC ACID PRODUCTION METHOD
(FR) APPAREIL DE PRODUCTION D'ACIDE FLUORHYDRIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ACIDE FLUORHYDRIQUE
(JA) フッ酸生成装置及びフッ酸生成方法
要約: front page image
(EN)In the production of hydrofluoric acid by holding fluorine by adsorption from a drainage water or waste water containing fluorine with an inorganic ceramic adsorbent mainly composed of active alumina and silicon dioxide and producing hydrofluoric acid from the adsorbent provided after the adsorption, the object is to increase the efficiency of production of hydrofluoric acid and prevent the degradation of the adsorbent. A hydrofluoric acid production apparatus for producing hydrofluoric acid by holding a fluorine ion by adsorption from a fluorine compound or fluorine mixture which contains a fluorine ion with a ceramic adsorbent mainly composed of active alumina and silicon dioxide and producing hydrofluoric acid from the adsorbent provided after the adsorption, the apparatus comprising a distillation means for reacting the adsorbent with a strong alkali or strong acid and generating hexafluorosilicic acid gas by addition of crystalline silicon dioxide, and a cooling means for cooling and hydrolyzing the hexafluorosilicic acid gas produced in the distillation means to produce hydrofluoric acid.
(FR)La présente invention concerne la production d'acide fluorhydrique en adsorbant du fluor provenant des eaux de ruissellement ou des eaux usées contenant du fluor sur un adsorbant céramique inorganique principalement composé d'alumine active et de dioxyde de silicium et en produisant de l'acide fluorhydrique à partir de l'adsorbant obtenu après l'adsorption. L'invention a pour objectif d'améliorer l'efficacité de la production d'acide fluorhydrique et d'éviter la dégradation de l'adsorbant. L'invention concerne également un appareil de production d'acide fluorhydrique destiné à produire de l'acide fluorhydrique en adsorbant un ion fluor provenant d'un composé de fluor ou d'un mélange de fluor sur un adsorbant céramique principalement composé d'alumine active et de dioxyde de silicium et en produisant de l'acide fluorhydrique à partir de l'adsorbant obtenu après l'adsorption. Ledit appareil comprend un moyen de distillation destiné à faire réagir l'adsorbant avec une base forte ou un acide fort pour générer de l'acide hexafluorosilicique gazeux par addition de dioxyde de silicium cristallin, et un moyen de refroidissement destiné à refroidir et à hydrolyser l'acide hexafluorosilicique gazeux produit dans le moyen de distillation afin de produire de l'acide fluorhydrique.
(JA) 活性アルミナ及び二酸化ケイ素を主成分とする無機セラミック系の吸着剤で、フッ素を含有する排水・廃液からフッ素を吸着処理し、吸着処理後の吸着剤を用いてフッ酸を生成する場合において、フッ酸の生成効率を高めるとともに、吸着剤の劣化を抑制することを課題とする。  このために、フッ素イオンを含有するフッ素化合物またはフッ素混合物からフッ素イオンを、活性アルミナおよび二酸化ケイ素を主成分とするセラミック系の吸着剤で吸着処理し、吸着処理後の吸着剤を用いてフッ酸を生成するフッ酸生成装置において、前記吸着剤と強アルカリまたは強酸とを反応させるとともに、結晶性二酸化ケイ素を加えてヘキサフルオロケイ酸ガスを発生させる蒸留手段と、前記蒸留手段により発生したヘキサフルオロケイ酸ガスを冷却し、加水分解してフッ酸を生成する冷却手段とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)