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1. (WO2007004334) 感光性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/004334    国際出願番号:    PCT/JP2006/301019
国際公開日: 11.01.2007 国際出願日: 24.01.2006
IPC:
G03F 7/027 (2006.01), C08F 290/06 (2006.01), C08G 59/17 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
出願人: DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MURATA, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ITOU, Hironobu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MURATA, Yoshiaki; (JP).
ITOU, Hironobu; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 104-8453 (JP)
優先権情報:
2005-191846 30.06.2005 JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物
要約: front page image
(EN)This invention provides a photosensitive resin composition comprising an acid group-containing vinyl ester resin and a photopolymerization initiator as indispensable components. The acid group-containing vinyl ester resin has a multiple branching molecular structure and is produced by reacting an epoxy vinyl ester resin, obtained by reacting a novolak epoxy resin with acrylic acid, with a polybasic acid anhydride, then reacting the acid group, formed by the reaction, with glycidyl methacrylate, and further reacting the secondary hydroxyl group, formed by this reaction, with a polybasic acid anhydride. The acid group-containing vinyl ester resin contains 1.75 to 3.5 radically polymerizable unsaturated double bonds per aromatic ring and contains the acid group in such an amount range that the acid value is 30 to 150 mg KOH/g. The photosensitive resin composition is a resin composition for a resist ink that simultaneously has ultrahigh sensitivity, excellent developability, and a broad heat control width.
(FR)La présente invention fournit une composition de résine photosensible comprenant une résine d’ester de vinyle contenant un groupe acide et un initiateur de photopolymérisation en tant que composants indispensables. La résine d'ester de vinyle contenant un groupe acide a une structure moléculaire à ramifications multiples et est produite en faisant réagir une résine d'ester de vinyle époxy, obtenue en faisant réagir une résine novolaque époxy avec de l'acide acrylique, avec un anhydride d’acide polybasique, puis en faisant réagir le groupe acide, formé par la réaction, avec le méthacrylate de glycidyle, et ensuite en faisant réagir le groupe hydroxyle secondaire, formé par cette réaction, avec un anhydride d’acide polybasique. La résine d'ester de vinyle contenant un groupe acide contient de 1,75 à 3,5 liaisons doubles insaturées radicalement polymérisables par polymérisation radicalaire par noyau aromatique et contient le groupe acide dans une gamme de quantité telle que l'indice d'acidité est de 30 à 150 mg de KOH/g. La composition de résine photosensible est une composition de résine pour une encre de résist qui possède simultanément une très grande sensibilité, une excellent capacité de développement et une grande gamme de régulation de la chaleur.
(JA) 本発明の感光性樹脂組成物は、ノボラック型エポキシ樹脂にアクリル酸を反応させたエポキシビニルエステル樹脂に、多塩基酸無水物を反応させ、次いで、該反応によって形成された酸基にグリシジルメタクリレートを反応させ、更に、この反応によって生じる2級水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られる多分岐状の分子構造を有する酸基含有ビニルエステル樹脂であって、かつ、ラジカル重合性不飽和二重結合を芳香環1個あたり、1.75~3.5個となる割合で有し、かつ、酸基を酸価が30~150mgKOH/gとなる範囲で含有する酸基含有ビニルエステル樹脂と、光重合開始剤とを必須成分とする。本発明によれば、超高感度性と、優れた現像性及び広い熱管理幅とを兼備する、レジストインキ用樹脂組成物を提供できる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)