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1. WO2007004289 - テスト用回路、ウェハ、測定装置、デバイス製造方法、及び表示装置

公開番号 WO/2007/004289
公開日 11.01.2007
国際出願番号 PCT/JP2005/012359
国際出願日 04.07.2005
IPC
H01L 29/78 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部
66半導体装置の型
68整流,増幅またはスイッチされる電流を流さない電極に電流のみまたは電位のみを与えることにより制御できるもの
76ユニポーラ装置
772電界効果トランジスタ
78絶縁ゲートによって生じる電界効果を有するもの
G01R 31/26 2006.1
G物理学
01測定;試験
R電気的変量の測定;磁気的変量の測定
31電気的性質を試験するための装置;電気的故障の位置を示すための装置;試験対象に特徴のある電気的試験用の装置で,他に分類されないもの
26個々の半導体装置の試験
G01R 31/28 2006.1
G物理学
01測定;試験
R電気的変量の測定;磁気的変量の測定
31電気的性質を試験するための装置;電気的故障の位置を示すための装置;試験対象に特徴のある電気的試験用の装置で,他に分類されないもの
28電子回路の試験,例.シグナルトレーサーによるもの
H01L 21/66 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66製造または処理中の試験または測定
H01L 21/822 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
701つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品または集積回路からなる装置またはその特定部品の製造または処理;集積回路装置またはその特定部品の製造
771つの共通基板内または上に形成される複数の固体構成部品または集積回路からなる装置の製造または処理
78複数の別個の装置に基板を分割することによるもの
82それぞれが複数の構成部品からなる装置,例.集積回路の製造
822基板がシリコン技術を用いる半導体であるもの
H01L 27/04 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
271つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
02整流,発振,増幅またはスイッチングに特に適用される半導体構成部品を含むものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する集積化された受動回路素子を含むもの
04基板が半導体本体であるもの
CPC
G01R 31/26
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
31Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
26Testing of individual semiconductor devices
G01R 31/275
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
31Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
26Testing of individual semiconductor devices
27Testing of devices without physical removal from the circuit of which they form part, e.g. compensating for effects surrounding elements
275for testing individual semiconductor components within integrated circuits
G01R 31/2884
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
31Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
2851Testing of integrated circuits [IC]
2884using dedicated test connectors, test elements or test circuits on the IC under test
H01L 22/00
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
22Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
出願人
  • 国立大学法人東北大学 NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOHOKU UNIVERSITY [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 須川 成利 SUGAWA, Shigetoshi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 寺本 章伸 TERAMOTO, Akinobu [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 須川 成利 SUGAWA, Shigetoshi
  • 寺本 章伸 TERAMOTO, Akinobu
代理人
  • 龍華 明裕 RYUKA, Akihiro
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) TESTING CIRCUIT, WAFER, MEASURING APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND DISPLAY DEVICE
(FR) CIRCUIT DE TEST, GALETTE, APPAREIL DE MESURE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF ET DISPOSITIF D’AFFICHAGE
(JA) テスト用回路、ウェハ、測定装置、デバイス製造方法、及び表示装置
要約
(EN) A testing circuit is provided with a plurality of transistors, which are to be measured and electrically arranged in parallel; a selecting section for sequentially selecting the transistors to be measured; and an output section for sequentially outputting source voltages of the transistors sequentially selected by the selecting section.
(FR) La présente invention concerne un circuit de test comportant une pluralité de transistors, dont les caractéristiques doivent être mesurées et qui sont électriquement connectés en parallèle ; une section de sélection pour sélectionner séquentiellement les transistors à vérifier ; et une section de sortie pour émettre séquentiellement les tensions de source des transistors sélectionnés séquentiellement par la section de sélection.
(JA)  電気的に並列に設けられた複数の被測定トランジスタと、それぞれの被測定トランジスタを順次選択する選択部と、選択部が順次選択した被測定トランジスタのソース電圧を順次出力する出力部とを有するテスト用回路を提供する。
関連特許文献
US11857444出願が移行したが国内段階でまだ公開されていないか、WIPO にデータを提供していない国への移行が通知されたか、あるいは出願の形式に問題があり、またはその他の理由で利用可能な状態でないため、PATENTSCOPE で表示できません。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報