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1. (WO2007001093) 高純度シリコンの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/001093    国際出願番号:    PCT/JP2006/313363
国際公開日: 04.01.2007 国際出願日: 28.06.2006
IPC:
C01B 33/033 (2006.01)
出願人: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SAEGUSA, Kunio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMABAYASHI, Toshiharu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SAEGUSA, Kunio; (JP).
YAMABAYASHI, Toshiharu; (JP)
代理人: ENOMOTO, Masayuki; c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited 5-33, Kitahama 4-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 541-8550 (JP)
優先権情報:
2005-189454 29.06.2005 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING HIGHLY PURE SILICON
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SILICIUM DE GRANDE PURETÉ
(JA) 高純度シリコンの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a highly pure silicon wherein a silicon is produced by reducing a halogenated silicon represented by the formula (1) below with aluminum. In this method, the aluminum used as a reducing agent has a purity of not less than 99.9% by weight. SiHnX4-n (1) (In the formula, n represents an integer of 0-3, and X represents one or more of halogen atoms selected from F, Cl, Br and I. In this connection, the purity of aluminum is the balance obtained by deducting the total weight% of iron, copper, gallium, titanium, nickel, sodium, magnesium and zinc contained in the aluminum from 100 weight%.)
(FR)La présente invention concerne un procédé de production de silicium de grande pureté selon lequel un silicium est produit en réduisant un silicium halogéné représenté par la formule (1) ci-dessous avec de l'aluminium. Dans ce procédé, l'aluminium utilisé en tant qu’agent réducteur a une pureté non inférieure à 99,9 % en poids. SiHnX4-n (1) (Dans la formule, n représente un nombre entier de 0 à 3, et X représente un ou plusieurs atomes d'halogène choisis parmi F, Cl, Br et I. À cet égard, la pureté de l'aluminium est le complément obtenu en déduisant le pourcentage total en poids du fer, du cuivre, du gallium, du titane, du nickel, du sodium, du magnésium et du zinc contenus dans l'aluminium de 100 % en poids.)
(JA)高純度シリコンの製造方法が提供される。高純度シリコンの製造方法は下式(1)で表されるハロゲン化珪素をアルミニウムで還元してシリコンを製造する方法であって、還元剤として使用するアルミニウムの純度が99.9重量%以上である。 SiHn4-n:      (1)(式中、nは、0~3の整数であり、Xは、F、Cl、Br、Iから選ばれた1種または2種以上のハロゲン原子である。ここでアルミニウムの純度は、100重量%から、アルミニウムに含まれる鉄と銅とガリウムとチタンとニッケルとナトリウムとマグネシウムと亜鉛の合計の重量%を差し引いたものである。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)