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1. (WO2007001045) 露光装置、基板処理方法、及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/001045    国際出願番号:    PCT/JP2006/312973
国際公開日: 04.01.2007 国際出願日: 29.06.2006
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
FUJIWARA, Tomoharu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKANO, Katsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: FUJIWARA, Tomoharu; (JP).
NAKANO, Katsushi; (JP)
代理人: KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden 5-4, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0022 (JP)
優先権情報:
2005-190254 29.06.2005 JP
2006-113478 17.04.2006 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND DEVICE PRODUCING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 露光装置、基板処理方法、及びデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)An exposure apparatus (EX) has a detector (60) for detecting a defect in thin films (Rg, Tc) formed on a substrate (P). In liquid immersion exposure where the substrate (P) is exposed through liquid (LQ), an outflow of the liquid caused by a defect in the thin films (Rg, Tc) is detected before it occurs to suppress a reduction in productivity of devices and prevent an occurrence of disturbance in the exposure apparatus.
(FR)La présente invention concerne un appareil d'exposition (EX) qui comporte un capteur (60) destiné à détecter un défaut dans des couches minces (Rg, Tc) formées sur un substrat (P). Dans l'exposition par une immersion dans un liquide dans laquelle le substrat (P) est exposé à travers un liquide (LQ), un écoulement du liquide engendré par un défaut dans les couches minces (Rg, Tc) est détecté avant qu'il se produise pour supprimer une réduction de productivité des dispositifs et de prévenir une occurrence de perturbation dans l'appareil exposition.
(JA)露光装置EXは、基板P上に形成された薄膜Rg,Tcの欠陥を検出する検出装置60を備えている。液体LQを介して基板Pが露光される液浸露光の場合には、薄膜Rg,Tcの欠陥による液体の流出を未然に検知して、デバイスの生産性の低下を抑制し、露光装置の障害の発生を防止する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)