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1. (WO2007001022) 金属膜の成膜方法及び成膜装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/001022    国際出願番号:    PCT/JP2006/312890
国際公開日: 04.01.2007 国際出願日: 28.06.2006
予備審査請求日:    01.05.2007    
IPC:
H01L 21/285 (2006.01), C23C 14/14 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), H01L 21/768 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IKEDA, Taro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIZUSAWA, Yasushi [JP/US]; (US) (米国のみ).
HATANO, Tatsuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YOKOYAMA, Osamu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKUMA, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: IKEDA, Taro; (JP).
MIZUSAWA, Yasushi; (US).
HATANO, Tatsuo; (JP).
YOKOYAMA, Osamu; (JP).
SAKUMA, Takashi; (JP)
代理人: YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005 (JP)
優先権情報:
2005-188107 28.06.2005 JP
2005-277044 26.09.2005 JP
発明の名称: (EN) METHOD AND APPARATUS FOR FORMING METAL FILM
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR FORMER UN FILM MÉTALLIQUE
(JA) 金属膜の成膜方法及び成膜装置
要約: front page image
(EN)A metal film forming method is provided with a step of placing a subject, which is to be treated and has a recessed section formed on the surface, on a placing table in a treatment chamber; a step of exhausting the treatment chamber; a step of ionizing a metal target in an exhausted treatment chamber by plasma formed by bringing an inert gas into the plasma state, and generating metal particles including metal ions; and a step wherein a recessed ground portion is formed by grinding a bottom section of the recessed section by applying bias power on the subject placed on the placing table and pulling the plasma and the metal particles into the subject, and a metal film is formed over the entire surface of the subject including the surfaces in the recessed section and the recessed ground section.
(FR)L’invention concerne un procédé de formation de film métallique comportant une étape qui consiste à placer un sujet à traiter et qui a une section en retrait de sa surface, sur une table de placement dans une chambre de traitement ; une étape d'évacuation de la chambre de traitement ; une étape d’ionisation d’une cible métallique dans une chambre de traitement évacuée à l’aide de plasma formé par la mise à l’état de plasma d’un gaz inerte, et générant des particules métalliques y compris des ions métalliques ; et une étape au cours de laquelle une partie moulue en retrait est formée en meulant une section inférieure de la section en retrait par l’application d’un courant de polarisation sur le sujet placé sur la table de placement et en tirant le plasma et les particules métalliques à l’intérieur du sujet, et une film métallique est formé sur la totalité de la surface du sujet, y compris les surfaces dans la section en retrait et la section meulée en retrait.
(JA) 本発明は、処理容器内の載置台上に、表面に凹部が形成された被処理体を載置する工程と、処理容器内を真空引きする工程と、真空引きされた処理容器内で、不活性ガスをプラズマ化して形成されたプラズマによって、金属ターゲットをイオン化させて金属イオンを含む金属粒子を発生させる工程と、前記載置台上に載置された前記被処理体にバイアス電力を印加して、前記プラズマ及び前記金属粒子を当該被処理体に引き込むことにより、前記凹部の底部を削って削り込み凹部を形成すると共に、前記凹部及び前記削り込み凹部内の表面を含む前記被処理体の表面の全体に金属膜を成膜する工程と、を備えたことを特徴とする金属膜の成膜方法である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)