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1. (WO2007000824) 半導体製造装置用反応室及び半導体製造装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2007/000824    国際出願番号:    PCT/JP2005/011979
国際公開日: 04.01.2007 国際出願日: 29.06.2005
IPC:
H01L 21/68 (2006.01)
出願人: EPICREW CORPORATION [JP/JP]; 147-40, Masuragaharamachi, Ohmura-shi, Nagasaki 8560022 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OKABE, Akira [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OKABE, Akira; (JP)
代理人: ARIYOSHI, Noriharu; 1-4, Hakataekihigashi 3-chome, Hakata-ku, Fukuoka-shi, Fukuoka 8120013 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) REACTION CHAMBER FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS
(FR) CHAMBRE DE RÉACTION POUR UN APPAREIL DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS ET APPAREIL DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS
(JA) 半導体製造装置用反応室及び半導体製造装置
要約: front page image
(EN)A reaction chamber for a semiconductor manufacturing apparatus capable of reducing the formation of particles and the semiconductor manufacturing apparatus. The reaction chamber for the semiconductor manufacturing apparatus comprises a support body having an opening part formed at a predetermined position and movable in the vertical direction, a raising member inserted into the opening part and movable in the vertical direction, a restriction member fixed to the lower side of the support body at the position of the opening part, and a reaction chamber which stores the support body, the raising member, and the restriction member and into which a reactive gas is supplied.
(FR)La présente invention concerne une chambre de réaction pour un appareil de fabrication de semi-conducteurs pouvant réduire la formation de particules, ainsi que l'appareil de fabrication de semi-conducteurs. La chambre de réaction pour ledit appareil comprend un corps de support présentant une partie d'ouverture formée en une position prédéterminée et mobile dans le sens vertical, un élément en relief inséré dans la partie d'ouverture et mobile dans le sens vertical, un élément de réduction fixé au côté inférieur du corps de support au niveau de la position de la partie d'ouverture et une chambre de réaction qui stocke le corps de support, l'élément en relief et l’élément de réduction et dans laquelle un gaz réactif est introduit.
(JA) パーティクルの発生を低減することができる、半導体製造装置用反応室及び半導体製造装置を提供する。所定箇所に開口部が形成されていると共に、上下方向に移動可能な支持体と、前記開口部に挿通された上下方向に移動可能な持上げ部材と、前記支持体の下方の前記開口部に対応する位置に固定された規制部材と、前記支持体、前記持上げ部材及び前記規制部材を収容すると共に反応ガスが供給される反応室とを備える半導体製造装置用反応室。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)