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1. (WO2006109427) 六塩化二ケイ素の精製方法及び高純度六塩化二ケイ素
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/109427    国際出願番号:    PCT/JP2006/305441
国際公開日: 19.10.2006 国際出願日: 17.03.2006
IPC:
C01B 33/107 (2006.01)
出願人: TOAGOSEI CO., LTD. [JP/JP]; 14-1, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku Tokyo 1058419 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ISHIKAWA, Koji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KIMATA, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ISHIKAWA, Koji; (JP).
SUZUKI, Hiroshi; (JP).
KIMATA, Yoshinori; (JP)
代理人: KOJIMA, Seiji; ATSUTA DAIDOSEIMEI-Bldg.2F 7-26, Jingu 3-chome Atsuta-ku, Nagoya-shi Aichi 4560031 (JP)
優先権情報:
2005-111438 07.04.2005 JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR PURIFICATION OF DISILICON HEXACHLORIDE AND HIGH PURITY DISILICON HEXACHLORIDE
(FR) PROCEDE DE PURIFICATION D’HEXACHLORURE DE DISILICIUM ET HEXACHLORURE DE DISILICIUM DE PURETE ELEVEE
(JA) 六塩化二ケイ素の精製方法及び高純度六塩化二ケイ素
要約: front page image
(EN)The purpose is to provide is a method for removing silanol with good efficiency from a raw material of disilicon hexachloride containing silanol as an impurity, to thereby prepare a high purity disilicon hexachloride. A method for purifying disilicon hexachloride including a step of contacting a raw material of disilicon hexachloride containing disilicon hexachloride and silanol as an impurity with an adsorbing material such as an activated carbon, to remove the silanol. The method may further includes a distillation step. It is preferred that the above steps are carried out in an atmosphere of an inert gas.
(FR)La présente invention concerne un procédé d’élimination du silanol avec un bon rendement, à partir d’hexachlorure de disilicium contenant le silanol en tant qu’impureté, afin de préparer de l’hexachlorure de disilicium de pureté élevée. Le procédé décrit inclut une étape de mise en contact d’un matériau de départ à l’hexachlorure de disilicium, contenant de l’hexachlorure de disilicium et du silanol en tant qu’impureté, avec un matériau adsorbant tel que du charbon actif, afin d’éliminer le silanol. Le procédé peut en outre inclure une étape de distillation. Il est préférable d'effectuer les opérations précédentes sous atmosphère de gaz inerte.
(JA) 本発明の目的は、不純物としてシラノールを含む六塩化二ケイ素原料からシラノールを効率よく除去して、高純度の六塩化二ケイ素を得る方法を提供することである。本発明の六塩化二ケイ素の精製方法は、六塩化二ケイ素と、不純物としてのシラノールとを含む六塩化二ケイ素原料を、活性炭等の吸着材と接触させ、シラノールを除去する工程を備える。更に、蒸留する工程を備えることもできる。上記各工程は、不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)