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1. (WO2006107044) プラズマ処理方法及び装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/107044    国際出願番号:    PCT/JP2006/307126
国際公開日: 12.10.2006 国際出願日: 04.04.2006
IPC:
H05H 1/00 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/265 (2006.01), H01L 21/302 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
出願人: MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OKUMURA, Tomohiro; (米国のみ).
SASAKI, Yuichiro; (米国のみ).
OKASHITA, Katsumi; (米国のみ).
ITO, Hiroyuki; (米国のみ).
MIZUNO, Bunji; (米国のみ).
JIN, Cheng-Guo; (米国のみ).
NAKAYAMA, Ichiro; (米国のみ)
発明者: OKUMURA, Tomohiro; .
SASAKI, Yuichiro; .
OKASHITA, Katsumi; .
ITO, Hiroyuki; .
MIZUNO, Bunji; .
JIN, Cheng-Guo; .
NAKAYAMA, Ichiro;
代理人: TAKAMATSU, Takeshi; Eikoh Patent Office 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku Tokyo 1050003 (JP)
優先権情報:
2005-107775 04.04.2005 JP
発明の名称: (EN) PLASMA PROCESSING METHOD AND SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE TRAITEMENT PLASMA
(JA) プラズマ処理方法及び装置
要約: front page image
(EN)Plasma processing method and system which can monitor an ion current incident to the surface of a sample accurately. A vacuum container (1) is evacuated through an outlet (11) by means of a turbo-molecular pump (3) while introducing predetermined gas from a gas supply unit (2), and a predetermined pressure level is sustained in the vacuum container (1) by means of a pressure regulating valve (4). Induction coupling plasma is generated in the vacuum container (1) by supplying a high frequency power from a high frequency power supply (5) for plasma source to a coil (8) provided in the vicinity of a dielectric window (7). A high frequency power supply (10) for sample electrode for supplying a high frequency power to a sample electrode (6) is provided, and a matching circuit (13) for sample electrode and a high frequency sensor (14) are provided between the high frequency power supply (10) for sample electrode and the sample electrode (6). An ion current incident to the surface of a sample can thereby be monitored accurately using the high frequency sensor (14) and a arithmetic unit (15).
(FR)L’invention concerne un procédé et un système de traitement plasma permettant de surveiller avec précision un courant ionique incident à la surface d’un échantillon. Un conteneur sous vide (1) est évacué par une sortie (11) au moyen d’une pompe turbo-moléculaire (3) tout en injectant un gaz prédéterminé à partir d’une unité d’injection de gaz (2), et un niveau de pression prédéterminé est maintenu dans le conteneur sous vide (1) au moyen d’une valve régulatrice de pression (4). Du plasma de couplage par induction est généré dans le conteneur sous vide (1) en injectant une puissance haute fréquence à partir d’une alimentation haute fréquence (5) pour source plasma dans une bobine (8) disposée au voisinage d’une fenêtre diélectrique (7). Une alimentation haute fréquence (10) pour électrode de prélèvement permettant d’injecter une puissance haute fréquence dans une électrode de prélèvement (6) est installée, et un circuit d’appariement (13) pour électrode de prélèvement de même qu’un capteur haute fréquence (14) sont montés entre l’alimentation haute fréquence (10) pour électrode de prélèvement et l’électrode de prélèvement (6). Un courant ionique incident à la surface d’un échantillon peut ainsi être surveillé avec précision à l’aide du capteur haute fréquence (14) et d’une unité arithmétique (15).
(JA) 本発明の課題は、試料表面に入射するイオン電流を正確にモニタリングできるプラズマ処理方法及び装置を提供することである。   真空容器(1)内に、ガス供給装置(2)から所定のガスを導入しつつ、ターボ分子ポンプ(3)により排気口(11)を介して排気を行い、調圧弁(4)により真空容器(1)内を所定の圧力に保つ。プラズマ源用高周波電源(5)により高周波電力を誘電体窓(7)の近傍に設けられたコイル(8)に供給することにより、真空容器(1)内に誘導結合型プラズマを発生させる。試料電極(6)に高周波電力を供給するための試料電極用高周波電源(10)が設けられ、これと試料電極(6)の間に、試料電極用整合回路(13)及び高周波センサ(14)が設けられている。高周波センサ(14)と演算装置(15)を用いて、試料表面に入射するイオン電流を正確にモニタリングすることができた。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)