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1. (WO2006107030) 成膜装置、成膜方法および記録媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/107030    国際出願番号:    PCT/JP2006/307058
国際公開日: 12.10.2006 国際出願日: 03.04.2006
IPC:
H01L 21/31 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAKAHASHI, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
AOYAMA, Shintaro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHINADA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAWAKAMI, Masato [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TAKAHASHI, Tsuyoshi; (JP).
AOYAMA, Shintaro; (JP).
SHINADA, Takahiro; (JP).
KAWAKAMI, Masato; (JP)
代理人: ITOH, Tadahiko; 32nd Floor Yebisu Garden Place Tower 20-3, Ebisu 4-chome Shibuya-Ku, Tokyo 1506032 (JP)
優先権情報:
2005-107667 04.04.2005 JP
発明の名称: (EN) FILM-FORMING APPARATUS, FILM-FORMING METHOD AND RECORDING MEDIUM
(FR) APPAREIL ET PROCEDE DE FORMATION DE FILM ET SUPPORT D’IMPRESSION
(JA) 成膜装置、成膜方法および記録媒体
要約: front page image
(EN)Disclosed is a film-forming apparatus comprising a process chamber in which a substrate to be processed is held, a first gas supply means for supplying a first gaseous material composed of a metal alkoxide having a tertiary butoxyl group as a ligand into the process chamber, and a second gas supply means for supplying a second gaseous material composed of a silicon alkoxide material into the process chamber. The first gas supply means and the second gas supply means are connected to a preliminary reaction means for causing a preliminary reaction between the first gaseous material and the second gaseous material, and the first and second gaseous materials after the preliminary reaction are supplied into the process chamber.
(FR)L’invention décrit un appareil de formation de film comprenant une chambre de traitement dans laquelle est maintenu un substrat à traiter, un premier moyen d’alimentation en gaz pour alimenter une premier matière gazeuse composée d’un alcoxyde métallique ayant un groupe butoxyle tertiaire en tant que ligand dans la chambre de traitement, et un deuxième moyen d’alimentation en gaz pour alimenter une deuxième matière gazeuse composée d’un matériau alcoxyde de silicium dans la chambre de traitement. Le premier moyen d’alimentation en gaz et le deuxième moyen d’alimentation en gaz sont reliés à un moyen de réaction préalable pour réaliser une réaction préalable entre la première matière gazeuse et la deuxième matière gazeuse, et après la réaction préalable, les première et deuxième matières gazeuses sont introduites dans la chambre de traitement.
(JA) 被処理基板を内部に保持する処理容器と、前記処理容器内に、ターシャリブトキシル基を配位子とする金属アルコキシドよりなる第1の気相原料を供給する第1のガス供給手段と、前記処理容器内に、シリコンアルコキシド原料よりなる第2の気相原料を供給する第2のガス供給手段と、を有し、前記第1のガス供給手段と前記第2のガス供給手段は、前記第1の気相原料と前記第2の気相原料を予備反応させる予備反応手段に接続され、予備反応後の前記第1の気相原料と前記第2の気相原料が前記処理容器内に供給される構造であることを特徴とする成膜装置。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)