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World Intellectual Property Organization
1. (WO2006104265) 圧電振動子及びその製造方法

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/104265    国際出願番号:    PCT/JP2006/307289
国際公開日: 05.10.2006 国際出願日: 30.03.2006
H03H 9/215 (2006.01), H01L 23/02 (2006.01), H01L 23/06 (2006.01), H01L 41/09 (2006.01), H03H 3/02 (2006.01), H03H 9/02 (2006.01), H03H 9/19 (2006.01)
出願人: SEIKO EPSON CORPORATION [JP/JP]; 4-1, Nishishinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630811 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KURODA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TANADA, Hideo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KURODA, Takahiro; (JP).
TANADA, Hideo; (JP)
代理人: UMEDA, Akihiko; TSK Sasazuka Building 8F, 2-19-2, Sasazuka, Shibuya-ku, Tokyo 1510073 (JP)
2005-099872 30.03.2005 JP
(JA) 圧電振動子及びその製造方法
要約: front page image
(EN)A crystal vibrator (1, 51) includes an upper and a lower substrate (3, 4, 53, 54) overlaid on the upper and the lower surface of an intermediate crystal plate (2, 52) formed by a crystal vibration piece (5, 55) and an external frame (6, 56) which are formed as a unitary block. These components are bonded hermetically. The upper and the lower substrate respectively have an indentation opposing to the intermediate crystal plate. The recesses define cavities (16, 66) for hermetically sealing the crystal vibration piece in a floating state. The upper and the lower bonding surface of the intermediate crystal plate are subjected to mirror finishing, after which a conductive film (9, 11) is formed. Each of the bonding surfaces of the upper and the lower substrate is a crystal surface subjected mirror finishing. In another embodiment, metal thin films (67 to 69) are formed on each bonding surface of the upper and the lower substrate subjected to the mirror finishing. The upper and lower substrate and the intermediate crystal plate have bonding surfaces subjected to surface activation by plasma treatment. Then the three of them are simultaneously subjected to pressure or each of the three is successively subjected to pressure at room temperature (or while being heated) so as to be bonded hermetically. The cavity is sealed as a vacuum or an inert gas atmosphere.
(FR)L’invention concerne un vibreur cristallin (1, 51) comprenant un substrat supérieur et un substrat inférieur (3, 4, 53, 54) déposés à la surface supérieure et la surface inférieure d’une plaque cristalline intermédiaire (2, 52) formée d’une partie vibrante cristalline (5, 55) et d’un cadre externe (6, 56) le tout formant un seul bloc. Ces composants sont collés hermétiquement. Le substrat supérieur et le substrat inférieur ont respectivement une indentation opposée à la plaque cristalline intermédiaire. Les retraits définissent des cavités (16, 66) permettant de sceller hermétiquement la partie vibrante cristalline dans un état de flottaison. La surface de liaison supérieure et la surface de liaison inférieure de la plaque cristalline intermédiaire sont soumises à une finition miroir, après laquelle on forme un film conducteur (9, 11). Chacune des surfaces de liaison du substrat supérieur et du substrat inférieur est une surface cristalline soumise à une finition miroir. Selon un autre mode de réalisation, de minces films métalliques (67 à 69) sont formés sur chaque surface de liaison du substrat supérieur et du substrat inférieur soumise à la finition miroir. Le substrat supérieur et le substrat inférieur de même que la plaque cristalline intermédiaire ont des surfaces de liaison soumises à une activation superficielle par traitement au plasma. Ensuite, ces trois éléments sont soumis simultanément à une pression ou bien chacun d’entre eux est soumis successivement à une pression à la température ambiante (ou bien pendant un chauffage) pour se coller hermétiquement. La cavité est scellée sous vide ou dans une atmosphère de gaz inerte.
(JA) 水晶振動子1,51は、水晶振動片5,55と外枠6,56とを一体に形成した中間水晶板2,52の上下面に上側及び下側基板3,4,53,54を積層して一体に気密に接合した構造を有する。上側及び下側基板は、それぞれ中間水晶板との対向面に凹部を有し、それにより水晶振動片を浮いた状態で気密に封止するためのキャビティ16,66を画定する。中間水晶板の上下接合面は鏡面研磨加工した後、導電膜9,11が形成されている。上側及び下側基板の各接合面は鏡面研磨加工した水晶素面からなる。別の実施例では、鏡面研磨加工した上側及び下側基板の各接合面に金属薄膜67~69が形成されている。上側・下側基板及び中間水晶板は、各接合面をプラズマ処理により表面活性化した後、3枚同時に又は1枚ずつ重ね合わせて常温で(任意により加熱しつつ)加圧することにより気密に接合し、キャビティを真空又は不活性ガスの雰囲気に封止する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)