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1. (WO2006104127) 露光装置、露光装置の製造方法及びマイクロデバイスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/104127    国際出願番号:    PCT/JP2006/306232
国際公開日: 05.10.2006 国際出願日: 28.03.2006
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KAWAMURA, Shuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KAWAMURA, Shuji; (JP)
代理人: FUJIMOTO, Yoshihiro; VerdyNOGIZAKA 2F 14-7, Minamiaoyama 1-chome Minato-ku, Tokyo 1070062 (JP)
優先権情報:
2005-095225 29.03.2005 JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRODEVICE
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION ET SON PROCEDE DE FABRICATION ET PROCEDE DE FABRICATION DE MICRODISPOSITIF
(JA) 露光装置、露光装置の製造方法及びマイクロデバイスの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is an exposure apparatus wherein a pattern formed on a mask (M) is transferred onto a photosensitive substrate (P) by light exposure through a projection optical system (PL). This exposure apparatus comprises an upper mount (26) on which at least one of a mask stage (MST) supporting the mask (M) or the projection optical system (PL) is mounted, and a plurality of lower mounts (6a) supporting the upper mount (26) while having their longitudinal directions oriented in a certain direction.
(FR)La présente invention concerne un dispositif d’exposition dans lequel un motif formé sur un masque (M) est transféré sur un substrat photosensible (P) par exposition lumineuse via un système optique de projection (PL). Ce dispositif d’exposition comprend une plaque supérieure (26), sur laquelle est monté au moins un étage de masque (MST) où repose le masque (M) ou le système optique de projection (PL), et une pluralité de plaques inférieures (6a), soutenant la plaque supérieure (26) et présentant une orientation donnée dans le sens longitudinal.
(JA) 投影光学系(PL)を介してマスク(M)に形成されるパターンを感光性基板(P)上に露光する露光装置であって、マスク(M)を保持するマスクステージ(MST)及び投影光学系(PL)の少なくとも一方が搭載される上架台部(26)と、上架台部(26)を支持するとともに、所定の方向に長手方向を有する複数の下架台部(6a)とを備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)