WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2006104039) ガス処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/104039    国際出願番号:    PCT/JP2006/305973
国際公開日: 05.10.2006 国際出願日: 24.03.2006
IPC:
B01D 53/82 (2006.01)
出願人: TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION [JP/JP]; 3-26, Koyama 1-chome Shinagawa-ku, Tokyo 1428558 (JP) (米国を除く全ての指定国).
AIZAWA, Yukihiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAGASAKA, Tooru [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: AIZAWA, Yukihiro; (JP).
NAGASAKA, Tooru; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2005-092805 28.03.2005 JP
発明の名称: (EN) APPARATUS FOR TREATING GAS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE GAZ
(JA) ガス処理装置
要約: front page image
(EN)Provided is an apparatus for treating a gas by using a packing material, for example, a gas treatment apparatus for converting an exhaust gas containing harmful substances, for example, various semiconductor material gases used in a semiconductor manufacturing process, a liquid crystal display element manufacturing process or the like, such as silane, phosphine, hydrogen chloride, dichlorosilane and ammonia, to a harmless gas by using a detoxifying agent. An apparatus for treating a gas, which comprises a detoxifying agent layer (3) provided in a flow path (6) in a gas treatment cylinder (1) and circular baffle boards (7) being provided in such a manner that they contact respectively with the upstream side face and the downstream side face of the detoxifying agent layer (3) and that the peripheries thereof contact with the surface of the wall of the flow path (6), wherein it is preferred that the width of the circular baffle board (7) is five times the outer diameter of the packing material or more and 9 % of the inner diameter (D) of the gas treatment cylinder (1) or less when an outer diameter (di) of the packing material and an inner diameter (D) of the gas treatment cylinder (1) has a relationship of 5di ≤ 0.09D, and the above width is 2 to 9 % of the inner diameter of the gas treatment cylinder (1) when the above relationship is 5di > 0.09D.
(FR)L’invention concerne un appareil de traitement de gaz à l’aide d’un matériau de garniture, par exemple un appareil de traitement de gaz permettant de convertir un gaz d’échappement contenant des substances nocives, par exemple, divers matériaux gazeux semi-conducteurs utilisés dans un procédé de fabrication de semi-conducteur, un procédé de fabrication d’élément d’affichage à cristaux liquides ou équivalent, comme le silane, la phosphine, le chlorure d’hydrogène, le dichlorosilane et l’ammoniac, en un gaz inoffensif à l’aide d’un agent de détoxification. L’appareil de traitement d’un gaz comprend une couche d’agent de détoxification (3) disposée dans un circuit d’écoulement (6) dans une bouteille de traitement de gaz (1) et des cartes chicanes circulaires (7) étant installées pour établir un contact respectivement avec la face côté amont et la face côté aval de la couche d’agent de détoxification (3) et pour que les périphéries de celles-ci fassent contact avec la surface de la paroi du circuit d’écoulement (6). On préfère que la largeur de la carte chicane circulaire (7) soit cinq fois plus grande que le diamètre externe du matériau de garniture ou davantage et 9 % du diamètre interne (D) de la bouteille de traitement de gaz (1) ou moins lorsqu’un diamètre externe (di) du matériau de garniture et un diamètre interne (D) de la bouteille de traitement de gaz (1) ont une relation telle que 5di ≤ 0,09D, et que la largeur ci-dessus corresponde à 2 - 9 % du diamètre interne de la bouteille de traitement de gaz (1) lorsque la relation ci-dessus est 5di > 0,09D.
(JA)   本発明は、充填剤を用いてガスを処理する装置、例えば、半導体製造工程や液晶表示素子製造工程等で用いられるシラン、ホスフィン、塩化水素、ジクロルシラン、アンモニア等の各種半導体材料ガスのような有害物質を含む排ガスを、無害化剤により無害化するためのガス処理装置を提供する。ガス処理筒1内の流路6に、無害化剤層3を設け、この無害化剤層3の上流側の面および下流側の面にそれぞれ接するように、円環状の邪魔板7を、その外縁部が流路6の壁面に接するように設ける。邪魔板7の幅は、充填剤の外径diとガス処理筒1の内径Dとの関係が5di≦0.09Dの時は、充填剤の外径の5倍以上であってガス処理筒1の内径の9%以下とし、5di>0.09Dの時は、ガス処理筒1の内径の2%以上であって9%以下とすることが好ましい。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)