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1. (WO2006103859) 基板洗浄方法および基板洗浄装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/103859    国際出願番号:    PCT/JP2006/303691
国際公開日: 05.10.2006 国際出願日: 28.02.2006
予備審査請求日:    15.09.2006    
IPC:
H01L 21/304 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAGAYASU, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIYAMOTO, Norio [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAGAYASU, Hiroshi; (JP).
MIYAMOTO, Norio; (JP)
代理人: YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-0005 (JP)
優先権情報:
2005-093435 29.03.2005 JP
発明の名称: (EN) METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT
(JA) 基板洗浄方法および基板洗浄装置
要約: front page image
(EN)Provided is a method for cleaning a substrate, which allows the removal, with reliability, of a matter being attached to the peripheral part of a substrate to be cleaned, which results in improving the yield of a product and also in prolonging the life of a device. A method for cleaning a substrate, which comprises a step of contacting a member (10) for cleaning a peripheral part with the peripheral part of a substrate (W) to be cleaned, to thereby clean the peripheral part of the substrate to be cleaned, and a step of removing the matter, which has been attached to the member for cleaning a peripheral part from the substrate to be cleaned, from the above member for cleaning a peripheral part, wherein the step of cleaning the peripheral part with the member for cleaning the peripheral part and the step of removing the matter being attached to the member for cleaning the peripheral part are carried out at the same time.
(FR)La présente invention concerne un procédé de nettoyage de substrat permettant de supprimer avec fiabilité une matière attachée à la zone périphérique d’un substrat à nettoyer, résultant en une amélioration du rendement d’un produit ainsi qu’en le prolongement de la durée de vie d’un appareil. Le procédé pour nettoyer un substrat comprend une étape selon laquelle on met en contact un membre (10) de nettoyage de zone périphérique avec la zone périphérique d'un substrat (W) à nettoyer pour nettoyer ainsi la zone périphérique du substrat à nettoyer, et une étape de retrait de la matière ayant été attachée au membre de nettoyage de zone périphérique depuis le substrat à nettoyer par le membre de nettoyage de zone périphérique susmentionné, l’étape de nettoyage de la zone périphérique avec le membre de nettoyage de zone périphérique et l’étape de retrait de la matière attachée au membre de nettoyage de zone périphérique étant effectuées simultanément.
(JA) 本発明は、被処理基板の周縁部に付着した付着物を確実に除去して製品歩留まりの向上を図れるようにするとともに、装置寿命の長期化を図れるようにした基板洗浄方法を提供する。基板洗浄方法は、周縁部洗浄部材10を被処理基板Wの周縁部に接触させ、当該被処理基板の周縁部を洗浄する工程と、被処理基板から周縁部洗浄部材に付着した付着物を、当該周縁部洗浄部材から除去する工程と、を備えている。周縁部洗浄部材による周縁部洗浄工程と、周縁部洗浄部材に対する付着物除去工程と、は同時に行われる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)