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1. (WO2006101130) 成膜装置及び成膜方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/101130    国際出願番号:    PCT/JP2006/305711
国際公開日: 28.09.2006 国際出願日: 22.03.2006
IPC:
C23C 16/18 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/285 (2006.01), H01L 21/3205 (2006.01), H01L 23/52 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YOSHII, Naoki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MATSUZAWA, Koumei [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KOJIMA, Yasuhiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YOSHII, Naoki; (JP).
MATSUZAWA, Koumei; (JP).
KOJIMA, Yasuhiko; (JP)
代理人: YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2005-082860 23.03.2005 JP
発明の名称: (EN) FILM-FORMING APPARATUS AND FILM-FORMING METHOD
(FR) APPAREIL FILMOGENE ET METHODE DE FORMATION DE FILMS
(JA) 成膜装置及び成膜方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a film-forming method characterized by comprising a step for forming a primary Cu film on a substrate by using a divalent Cu material, and another step for forming a secondary Cu film on the primary Cu film by using a monovalent Cu material.
(FR)L’invention concerne une méthode de formation de films, caractérisée en ce qu’elle comprend une étape de formation d’un premier film de Cu sur un substrat en utilisant un matériau à base de Cu divalent, et une autre étape de formation d’un second film de Cu sur le premier film de Cu en utilisant un matériau à base de Cu monovalent.
(JA) 本発明の成膜方法は、二価のCuの原料物質を用いて基板上に第1段階のCu膜を成膜する工程と、一価のCuの原料物質を用いて前記第1段階のCu膜上に第2段階のCu膜を成膜する工程と、を備えたことを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)