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1. (WO2006098336) めっき処理方法、透光性導電性膜、および電磁波シールド膜
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/098336    国際出願番号:    PCT/JP2006/305057
国際公開日: 21.09.2006 国際出願日: 14.03.2006
IPC:
C25D 7/06 (2006.01), C25D 5/56 (2006.01), C25D 7/00 (2006.01), H05K 9/00 (2006.01)
出願人: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MATSUMOTO, Jun; (米国のみ)
発明者: MATSUMOTO, Jun;
代理人: OGURI, Shohei; Eikoh Patent Office 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 105-0003 (JP)
優先権情報:
2005-073456 15.03.2005 JP
発明の名称: (EN) PLATING METHOD, LIGHT-TRANSMITTING CONDUCTIVE FILM AND ELECTROMAGNETIC SHIELDING FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PLACAGE, FILM CONDUCTEUR ÉMETTEUR DE LUMIÈRE ET FILM DE PROTECTION ÉLECTROMAGNÉTIQUE
(JA) めっき処理方法、透光性導電性膜、および電磁波シールド膜
要約: front page image
(EN)Disclosed is a plating method for electrolytically plating a film surface having a surface resistance of from 1 Ω/□ to 1000 Ω/□ continuously. This plating method is characterized in that the distance from the lowest portion of the film surface which is in contact with a cathode to the surface of the plating solution is not less than 0.5 cm but not more than 15 cm.
(FR)L'invention concerne un procédé de placage pour plaquer de manière électrolytique une surface de film ayant une résistance de surface allant de 1 Ω/□ à 1000 Ω/□ en continu. Ce procédé de placage est caractérisé en ce que la distance de la partie la plus basse de la surface de film qui est en contact avec une cathode jusqu'à la surface de la solution de placage n'est pas inférieure à 0,5 cm mais non supérieure à 15 cm.
(JA) 表面抵抗が1Ω/□~1000Ω/□のフィルム表面を連続して電解めっきするめっき処理方法であって、陰極と前記フィルムとが接している面の最下部からめっき液面までの距離が0.5cm以上15cm以下であることを特徴とするめっき処理方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)