WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2006095575) プラズマ処理装置およびそれを用いた半導体薄膜の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/095575    国際出願番号:    PCT/JP2006/303298
国際公開日: 14.09.2006 国際出願日: 23.02.2006
IPC:
H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KISHIMOTO, Katsushi; (米国のみ).
FUKUOKA, Yusuke; (米国のみ)
発明者: KISHIMOTO, Katsushi; .
FUKUOKA, Yusuke;
代理人: NOGAWA, Shintaro; Nogawa Patent Office Minamimorimachi Park Bldg. 1-3, Nishitenma 5-chome Kita-ku, Osaka-shi Osaka 530-0047 (JP)
優先権情報:
2005-062701 07.03.2005 JP
発明の名称: (EN) PLASMA TREATMENT APPARATUS AND SEMICONDUCTOR THIN FILM MANUFACTURING METHOD USING SAME
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM MINCE SEMI-CONDUCTEUR UTILISANT LEDIT APPAREIL
(JA) プラズマ処理装置およびそれを用いた半導体薄膜の製造方法
要約: front page image
(EN)A plasma treatment apparatus is characterized in that an inside of a hermetically closable chamber (11) is provided with an inner structure (8) which is arranged at a distance from an inner wall plane of the chamber (11) and forms an inner space for storing a substrate (1) to be treated; a substrate holding section (15) for storing the substrate (1) in the inner space; a reactive gas supplying means for supplying the inner space with a reactive gas; a cathode (2) and an anode (4), which are supported by the inner structure (8), arranged on the both planes of the substrate (1) in the inner space, and perform plasma discharge of the reactive gas; a heater (24) which is supported by the inner structure (8) and heats the substrate (1) in the inner space; and a heat dissipating means which can dissipate Joule heat generated by the plasma discharge to the outside of the inner space.
(FR)L’invention concerne un appareil de traitement au plasma caractérisé en ce qu’une partie intérieure d’une chambre pouvant être fermée hermétiquement (11) est pourvue d’une structure interne (8) qui est aménagée à une certaine distance depuis un plan de paroi interne de la chambre (11) et forme un espace interne pour stocker un substrat (1) à traiter ; une section de maintien de substrat (15) permettant de stocker le substrat (1) dans l’espace interne ; un moyen d’alimentation en gaz réactif permettant d’injecter dans l’espace interne un gaz réactif ; une cathode (2) et une anode (4), qui sont supportées par la structure interne (8), disposées sur les deux plans du substrat (1) dans l’espace interne, et qui réalisent une décharge de plasma du gaz réactif ; un radiateur (24) qui est supporté par la structure interne (8) et chauffe le substrat (1) dans l’espace interne ; et un moyen de dissipation thermique capable de dissiper la chaleur Joule générée par la décharge de plasma vers l’extérieur de l’espace interne.
(JA)  密封可能なチャンバー11内に、チャンバー11の内壁面から隔離して設けられ、かつ処理対象の基板1を収容する内側空間を形成する内部構造体8と、内側空間に基板1を収容する基板保持部15と、内側空間に反応性ガスを供給する反応性ガス供給手段と、内部構造体8に支持され、内側空間で基板1の両面側に配設され、かつ反応性ガスをプラズマ放電させるカソード2およびアノード4と、内部構造体8に支持され、内側空間で基板1を加熱するヒータ24と、プラズマ放電で発生するジュール熱を内側空間外に放熱し得る放熱手段とを備えてなることを特徴とするプラズマ処理装置。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)