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1. (WO2006095560) 基板処理方法、記録媒体および基板処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/095560    国際出願番号:    PCT/JP2006/302928
国際公開日: 14.09.2006 国際出願日: 20.02.2006
IPC:
H01L 21/316 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAKAGI, Toshio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KANEKO, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IWATA, Teruo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKEYAMA, Tamaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAKIMOTO, Akinobu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TAKAGI, Toshio; (JP).
KANEKO, Hiroshi; (JP).
IWATA, Teruo; (JP).
TAKEYAMA, Tamaki; (JP).
KAKIMOTO, Akinobu; (JP)
代理人: ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-Chome, Shibuya-Ku, Tokyo 1506032 (JP)
優先権情報:
2005-067777 10.03.2005 JP
発明の名称: (EN) METHOD OF SUBSTRATE TREATMENT, RECORDING MEDIUM AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS
(FR) PROCEDE DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, SUPPORT D’ENREGISTREMENT ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理方法、記録媒体および基板処理装置
要約: front page image
(EN)A method of substrate treatment by means of a substrate treating apparatus holding a treatment object substrate and including a treatment vessel having thereinside a first space wherein a first treating gas or second treating gas is fed on the treatment object substrate and a second space defined around the first space and communicating with the first space; first evacuation means for evacuating the first space; and second evacuation means for evacuating the second space, which method is characterized by including the first step of feeding the first treating gas to the first space; the second step of discharging the first treating gas from the first space; the third step of feeding the second treating gas to the first space; and the fourth step of discharging the second treating gas from the first space, while the pressure of the second space is controlled by a pressure regulation gas fed into the second space.
(FR)L’invention concerne un procédé de traitement de substrat qui utilise un appareil de traitement de substrat contenant un substrat objet à traiter et pourvu d’une enceinte de traitement comprenant un premier espace, dans lequel un premier ou un second gaz de traitement est acheminé vers le substrat objet à traiter, et un second espace défini autour du premier espace et communicant avec le premier espace ; un premier dispositif d’évacuation pour évacuer le premier espace ; et un second dispositif d’évacuation pour évacuer le second espace. Ce procédé se caractérise en ce qu’il comprend : une première étape consistant à introduire le premier gaz de traitement dans le premier espace de traitement ; une deuxième étape consistant à évacuer le premier gaz de traitement du premier espace ; une troisième étape consistant à introduire le second gaz de traitement dans le premier espace ; et une quatrième étape consistant à évacuer le second gaz de traitement du premier espace, tandis que la pression du second espace est contrôlée par un gaz régulant la pression qui est introduit dans le second espace.
(JA) 被処理基板が保持され、当該被処理基板上に、第1の処理ガスまたは第2の処理ガスが供給される第1の空間と、当該第1の空間の周囲に画成され、当該第1の空間と連通する第2の空間とを内部に有する処理容器と、前記第1の空間を排気する第1の排気手段と、前記第2の空間を排気する第2の排気手段と、を有する基板処理装置による基板処理方法であって、前記第1の空間に前記第1の処理ガスを供給する第1の工程と、当該第1の処理ガスを前記第1の空間より排出する第2の工程と、前記第1の空間に前記第2の処理ガスを供給する第3の工程と、当該第2の処理ガスを前記第1の空間から排出する第4の工程と、を有し、前記第2の空間の圧力が、当該第2の空間に供給される圧力調整ガスによって調整されることを特徴とする基板処理方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)