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1. (WO2006095540) ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/095540    国際出願番号:    PCT/JP2006/302558
国際公開日: 14.09.2006 国際出願日: 14.02.2006
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMAZAKI, Akiyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OHKUBO, Waki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MOTOIKE, Naoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MAEMORI, Satoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI, Yuichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMAZAKI, Akiyoshi; (JP).
OHKUBO, Waki; (JP).
MOTOIKE, Naoto; (JP).
MAEMORI, Satoshi; (JP).
SUZUKI, Yuichi; (JP)
代理人: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 104-8453 (JP)
優先権情報:
2005-060518 04.03.2005 JP
発明の名称: (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE POSITIVE ET PROCÉDÉ SERVANT À FORMER UN DESSIN DE RÉSERVE
(JA) ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a positive resist composition comprising a resin component (A) whose alkali solubility is increased by the action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid when exposed to light. This positive resist composition is characterized in that the resin component (A) comprises a first resin component (A1) having a first constitutional unit derived from a hydroxystyrene, a second constitutional unit derived from a (meth)acrylate having an alcoholic hydroxyl group, and a third constitutional unit wherein the hydroxyl group of the constitutional unit derived from a hydroxystyrene is protected by an acid-cleavable dissolution inhibiting group and/or a fourth constitutional unit wherein the alcoholic hydroxyl group of the constitutional unit derived from a (meth)acrylate having an alcoholic hydroxyl group is protected by an acid-cleavable dissolution inhibiting group, and a second resin component (A2) having a fifth constitutional unit derived from a hydroxystyrene and a sixth constitutional unit wherein the hydroxyl group of the constitutional unit derived from a hydroxystyrene is protected by an acid-cleavable dissolution inhibiting group.
(FR)Il est exposé une composition de réserve positive comprenant un composant résine (A), dont la solubilité dans un alcali est accrue par l'action d'un acide, et un composant générateur d'acide (B) lequel génère un acide lorsqu'il est exposé à de la lumière. Cette composition de réserve positive est caractérisée en ce que le composant résine (A) comprend un premier composant résine (A1) ayant une première unité constitutive dérivée d'un hydroxystyrène, une deuxième unité constitutive dérivée d'un (méth)acrylate ayant un groupe hydroxyle alcoolique et une troisième unité constitutive, le groupe hydroxyle de l'unité constitutive dérivée d'un hydroxystyrène étant protégé par un groupe inhibiteur de dissolution libérable par un acide et/ou une quatrième unité constitutive, le groupe hydroxyle alcoolique de l'unité constitutive dérivée d'un (méth)acrylate ayant un groupe hydroxyle alcoolique étant protégé par un groupe inhibiteur de dissolution libérable par un acide, et un second composant résine (A2) ayant une cinquième unité constitutive dérivée d'un hydroxystyrène et une sixième unité constitutive, le groupe hydroxyle de l'unité constitutive dérivée d'un hydroxystyrène étant protégé par un groupe inhibiteur de dissolution libérable par un acide.
(JA) このポジ型レジスト組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含み、(A)成分が、ヒドロキシスチレンから誘導される第1の構成単位、アルコール性水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルから誘導される第2の構成単位、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位の水酸基が酸解離性溶解抑制基で保護された第3の構成単位および/またはアルコール性水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位のアルコール性水酸基が酸解離性溶解抑制基で保護された第4の構成単位を有する第1の樹脂成分と、ヒドロキシスチレンから誘導される第5の構成単位と、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位の水酸基が酸解離性溶解抑制基で保護された第6の構成単位を有する第2の樹脂成分(A2)とを含むポジ型レジスト組成物である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)