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1. (WO2006093120) 中継ステーション及び中継ステーションを用いた基板処理システム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/093120    国際出願番号:    PCT/JP2006/303693
国際公開日: 08.09.2006 国際出願日: 28.02.2006
IPC:
H01L 21/677 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KARASAWA, Wataru [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KARASAWA, Wataru; (JP)
代理人: SUYAMA, Saichi; Kanda Higashiyama Bldg., 1, Kandata-cho 2-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010046 (JP)
優先権情報:
2005-056362 01.03.2005 JP
発明の名称: (EN) RELAY STATION AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM USING RELAY STATION
(FR) STATION RELAIS ET SYSTEME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT UTILISANT LADITE STATION
(JA) 中継ステーション及び中継ステーションを用いた基板処理システム
要約: front page image
(EN)An inside of a relay station (10) is permitted to be a substrate storing section (10a), and on facing side walls of the substrate storing section, supporting sections (11) for supporting a plurality of semiconductor wafers are formed. On both sides of the relay station (10), a substrate processing apparatus side opening section (12) and a transferring apparatus side opening section (13) are formed, and these opening sections are provided with a substrate processing apparatus side opening/closing mechanism (14) and a transfer apparatus side opening/closing mechanism (15). A bottom plane (18) of the relay station (10) has a shape of a hoop conforming to the SEMI standards and can be placed on a placing table for placing the hoop.
(FR)Grâce à la présente invention, une partie intérieure d'une station relais (10) peut devenir une partiepartie de stockage de substrat (10a) ; sur les parois latérales opposées de la partie de stockage du substrat, sont formées des parties de support (11) visant à supporter une pluralité de tranches à semi-conducteurs. Des deux côtés de la station relais (10), sont formées une partie d'ouverture sur le côté de l'appareil de traitement de substrat (12) et une partie d'ouverture sur le côté de l'appareil de transfert (13) ; ces parties d'ouverture sont munies d'un mécanisme d'ouverture/fermeture du côté de l'appareil de traitement de substrat (14) et d'un mécanisme d'ouverture/fermeture du côté de l'appareil de transfert (15). Un plan inférieur (18) de la station relais (6) possède une forme d'arceau conforme aux normes SEMI et peut être placé sur une table de placement afin de positionner l'arceau.
(JA)not available
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)