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1. (WO2006077986) 透明導電膜製膜装置及び多層透明導電膜連続製膜装置並びにその製膜方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/077986    国際出願番号:    PCT/JP2006/300888
国際公開日: 27.07.2006 国際出願日: 20.01.2006
IPC:
H01L 21/205 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), C23C 16/46 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), H01L 51/42 (2006.01)
出願人: SHOWA SHELL SEKIYU K.K. [JP/JP]; 2-3-2, Daiba, Minato-ku, Tokyo 1358074 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TANAKA, Yoshiaki; (米国のみ)
発明者: TANAKA, Yoshiaki;
代理人: MIYAKOSHI, Noriaki; Shin-ei Patent Office 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome Minato-ku, Tokyo 105-0003 (JP)
優先権情報:
2005-013682 21.01.2005 JP
発明の名称: (EN) TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM FORMING APPARATUS, MULTILAYER TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM CONTINUOUSLY FORMING APPARATUS AND METHOD OF FILM FORMING THEREWITH
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION D'UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, DISPOSITIF DE FORMATION EN CONTINU D'UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT MULTICOUCHE ET PROCEDE DE FORMATION D'UN FILM A L'AIDE DE CE DERNIER
(JA) 透明導電膜製膜装置及び多層透明導電膜連続製膜装置並びにその製膜方法
要約: front page image
(EN)It is intended to attain an increase of film forming rate while saving raw materials and while maintaining a homogeneous high film quality. There is provided a multilayer transparent conductive film continuously forming apparatus, comprising a substrate mounting section; a charging section adapted for vacuum exhaust; a multilayer film forming treatment section including multiple film forming treatment areas capable of carrying out reaction of an organometallic compound (diethylzinc), diborane and water in a vapor phase and forming a transparent conductive film on a substrate according to the MOCVD process; a substrate ejection section; a substrate detaching section; and a setter return section capable of returning a substrate setter to the substrate mounting section, wherein while sequentially traveling the mentioned sections, a multilayer transparent conductive film is continuously formed on the substrate. Each of the film forming treatment areas is fitted with respective nozzles for injection of the organometallic compound, diborane and water and further fitted with cooling means for cooling them.
(FR)La présente invention a pour but d'augmenter la vitesse de formation d'un film tout en économisant les matières premières et tout en maintenant une haute qualité de film homogène. concerne un appareil formant en continu un film conducteur transparent multicouche, comprenant une section de montage du substrat ; une section de chargement adaptée à une sortie de vide ; une section de traitement formant un film multicouche comprenant une pluralité de zones de traitement formant un film capables de faire réagir un composé organométallique (diéthylzinc), du diborane et de l'eau en phase gazeuse et de former un film conducteur transparent sur un substrat selon le procédé MOCVD ; une section d'éjection du substrat ; une section de détachement du substrat ; et une section de renvoi du support, capable de renvoyer le support du substrat à la section de montage du substrat, un film conducteur transparent multicouche étant formé en continu sur le substrat tandis que la section de renvoi se déplace séquentiellement à travers les sections mentionnées. Chacune des zones de traitement formant un film est équipée de buses respectivement destinées à l'injection du composé organométallique, du diborane et de l'eau et est également équipée de moyens de refroidissement destinés à les refroidir.
(JA)  原料を節約し、均一で高品質な膜質を保持しつつ製膜速度を向上させる。   多層透明導電膜連続製膜装置は、基板装着部と、真空排気を行う仕込み部と、有機金属化合物(ジエチル亜鉛)とジボランと水を気相で反応させMOCVD法により透明導電膜を基板上に形成する製膜処理部を複数有する多層製膜処理部と、基板取り出し部と、基板取外し部と、基板セッターを基板装着部へ戻させるセッターリターン部とからなり、前記各部を順次移動しながら基板に多層透明導電膜を連続的に製膜する。各製膜処理部は、有機金属化合物とジボラン、水の夫々を噴射するノズルを設け、これらを冷却する冷却機構を設ける。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)