WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2006077905) ステージ装置および塗布処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/077905    国際出願番号:    PCT/JP2006/300688
国際公開日: 27.07.2006 国際出願日: 19.01.2006
IPC:
B65G 49/06 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), B05C 13/02 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
INAMASU, Toshifumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMASAKI, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIYAZAKI, Kazuhito [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: INAMASU, Toshifumi; (JP).
YAMASAKI, Tsuyoshi; (JP).
MIYAZAKI, Kazuhito; (JP)
代理人: TAKAYAMA, Hiroshi; 7th Floor Daiichi Shinwa Building 10-8, Akasaka 2-chome, Minato-ku Tokyo 1070052 (JP)
優先権情報:
2005-015564 24.01.2005 JP
発明の名称: (EN) STAGE APPARATUS AND APPLICATION PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL A PLATINES ET APPAREIL DE TRAITEMENT D’APPLICATION
(JA) ステージ装置および塗布処理装置
要約: front page image
(EN)A stage apparatus in which a rectangular substrate that is lifted over a stage is transported such that a pair of sides of the substrate is substantially parallel to a transportation direction and the other pair of sides of the substrate is substantially orthogonal to the transportation direction. The stage has gas jetting openings for jetting gas and suction openings for sucking the substrate by sucking air. The stage causes the rectangular substrate to be lifted in a horizontal attitude at a certain height from the surface of the stage, and the lifting is made by suction through the suction openings by means of a suction mechanism and by gas jetting through the gas jetting openings by means of a gas jetting mechanism. The suction openings are arranged in the stage so that, when the rectangular substrate is being transported over the stage, a variation in suction air pressure at the suction openings is within an allowable range. The arrangement of the suction openings is such that the head end in the transportation direction of the substrate does not simultaneously cover suction openings of the number equal to or more than a predetermined number, and at the same time, the tail end in the transportation direction of the substrate does not open suction openings of the number equal to or more than a predetermined number.
(FR)L’invention concerne un appareil à platines dans lequel un substrat rectangulaire levé par une platine est transporté de manière à ce que deux de ses côtés soient sensiblement parallèles à un sens de transport et les deux autres côtés sensiblement perpendiculaires au sens de transport. La platine présente des ouvertures d’injection pour l’injection de gaz et des ouvertures d’aspiration pour l’aspiration du substrat par l’aspiration de l’air. La platine permet de soulever le substrat rectangulaire en position horizontale à une certaine hauteur à partir de la surface de la platine, et ce par aspiration par l’intermédiaire des ouvertures d’aspiration au moyen d’un système d’aspiration et par injection de gaz par l’intermédiaire des ouvertures d’injection au moyen d’un système d’injection de gaz. Les ouvertures d’aspiration sont disposées de telle sorte que, lorsque le substrat rectangulaire est transporté par la platine, un écart de la pression de l’air d’aspiration aux ouvertures d’aspiration reste dans une plage admissible. La disposition des ouvertures d’aspiration est telle que l’extrémité avantdans le sens de transport du substrat ne couvre pas simultanément un nombre des ouvertures d’aspiration égal ou supérieur à un nombre prédéterminé et que, en même temps, l’extrémité arrière dans le sens de transport du substrat n’ouvre pas un nombre d’ouvertures d’aspiration égal ou supérieur à un nombre prédéterminé.
(JA) ステージ上で浮上した矩形基板がその一対の辺が搬送方向と実質的に平行で他の一対の辺が搬送方向と実質的に直交するように搬送されるステージ装置であって、ステージは、ガスを噴射するための複数のガス噴射口と、吸気により矩形基板を吸引するための複数の吸気口とを有し、吸気機構による複数の吸気口を介しての吸引と、ガス噴射機構による複数のガス噴射口を介してのガス噴射とにより、ステージの表面から一定の高さに矩形基板を実質的に水平姿勢で浮上させ、複数の吸気口は、矩形基板が前記ステージ上を搬送された際に、吸気口の吸気圧力変動が許容範囲になるように、基板の搬送方向先端が同時に所定数以上の吸気口を覆うことがなく、かつ、矩形基板の搬送方向後端が同時に所定数以上の吸気口を開放させることがない状態でステージに配置される。  
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)