WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2006075755) 蒸発源及び蒸着装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/075755    国際出願番号:    PCT/JP2006/300506
国際公開日: 20.07.2006 国際出願日: 17.01.2006
予備審査請求日:    26.04.2006    
IPC:
C23C 14/24 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H01L 51/56 (2006.01)
出願人: YOUTEC CO., LTD. [JP/JP]; 956-1, Nishi-hirai, Nagareyama-shi, Chiba 2700156 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ABE, Koji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUZUKI, Mitsuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HONDA, Yuuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ABE, Koji; (JP).
SUZUKI, Mitsuhiro; (JP).
HONDA, Yuuji; (JP)
代理人: YANASE, Mutsuyasu; PATENT ATTORNEYS SHINPO, 8th Floor, UK Bldg., 1-32-14, Takadanobaba, Shinjuku-ku, Tokyo 169-0075 (JP)
優先権情報:
2005-009210 17.01.2005 JP
発明の名称: (EN) EVAPORATION SOURCE AND VAPOR DEPOSITION APPARATUS
(FR) SOURCE D’EVAPORATION ET APPAREIL DE DEPOT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸発源及び蒸着装置
要約: front page image
(EN)An evaporation source that enables controlling of the temperature of evaporation material with high accuracy and also enables conducting of cooling and heating within a short period of time; and a relevant vapor deposition apparatus. There is provided an evaporation source comprising slender vessel (102) for accommodating of an evaporation material or sublimation material and halogen heater (120a-120d) capable of directly heating the evaporation material (4) or sublimation material accommodated in the vessel to thereby attain evaporation or sublimation. The vessel (102) is made of, for example, quartz. With respect to the rolling density of filament of the halogen heater, coarse and dense portions are provided in the same halogen heater so that the thickness of film formed by vapor deposition becomes substantially constant. Thus, the evaporation material accommodated in the vessel can be uniformly heated, so that the vapor of the evaporation material can be uniformly discharged outside the vessel. Therefore, a vapor deposition film with substantially constant thickness can be formed on a substrate.
(FR)L’invention concerne une source d’évaporation permettant de réguler très précisément la température d’une substance à évaporer et de réaliser un refroidissement et un chauffage dans des délais brefs. L’invention concerne également un appareil de dépôt en phase vapeur associé. La source d’évaporation comprend un réceptacle élancé (102) pour recevoir une substance à évaporer ou une substance à sublimer, et un élément chauffant à halogène (120a-120d) capable de chauffer directement la substance à évaporer (4) ou la substance à sublimer reçue dans le réceptacle de façon à réaliser son évaporation ou sa sublimation. Le réceptacle (102) est constitué, par exemple, de quartz. En ce qui concerne la densité du filament de l’élément chauffant à halogène, des parties épaisses et denses sont formées dans l’élément chauffant à halogène de façon à donner à la couche formée par dépôt en phase vapeur une épaisseur essentiellement constante. La substance à évaporer reçue dans le réceptacle peut donc faire l’objet d’un traitement uniforme, ce qui permet d’évacuer uniformément du réceptacle la vapeur de la substance évaporée. Il est donc possible de réaliser le dépôt en phase vapeur d’une couche d’épaisseur essentiellement constante sur un substrat.
(JA) 蒸発材料の温度を精度よく制御でき、冷却と加熱を短時間で行うことができる蒸発源及び蒸着装置を提供する。本発明に係る蒸着源は、蒸発材料又は昇華材料が収容される細長い容器102と、前記容器に収容される蒸発材料4又は昇華材料を直接加熱して蒸発又は昇華させるハロゲンヒータ120a~120dとを具備する。容器102は、例えば石英製である。また、前記ハロゲンヒータのフィラメントの巻密度は、蒸着成膜される膜厚が略一定になるように同一ハロゲンヒータ内において粗密が設けられている。これにより、容器内の蒸発材料を均一に加熱することができ、その結果、蒸発材料の蒸気を容器の外部に均一に放出することができる。従って、基板に略一定の膜厚で蒸着膜を成膜することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)