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1. (WO2006075625) ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/075625    国際出願番号:    PCT/JP2006/300222
国際公開日: 20.07.2006 国際出願日: 11.01.2006
IPC:
G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), C08F 220/22 (2006.01), C08F 232/08 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
IWASHITA, Jun [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: IWASHITA, Jun; (JP)
代理人: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2005-005013 12.01.2005 JP
発明の名称: (EN) NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE PHOTORESINE NEGATIVE ET PROCEDE DE FORMATION DE MOTIF EN PHOTORESINE
(JA) ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)A negative resist composition which can give a resist pattern inhibited from swelling. The negative resist composition comprises (A) an alkali-soluble resin ingredient, (B) an acid generator ingredient which generates an acid upon exposure to light, and (C) a crosslinking agent ingredient, wherein the alkali-soluble resin ingredient (A) is a copolymer (A1) comprising a structural unit (a1) having in the backbone an alicyclic group having a fluorinated hydroxyalkyl group, a structural unit (a2) derived from an acrylic ester having a hydroxylated, chain or cyclic alkyl group and having a fluoroalkyl group or fluorine atom bonded in the &agr;-position, and a structural unit (a3) derived from an acrylic ester which has an alicyclic group having a fluorinated hydroxyalkyl group and has a fluoroalkyl group or fluorine atom bonded in the &agr;-position.
(FR)L'invention concerne une composition de photorésine négative permettant d'obtenir un motif de photorésine ne gonflant pas. La composition de photorésine négative comprend (A) une résine soluble dans les alcalis, (B) un générateur d'acide qui génère un acide lorsqu'il est exposé à de la lumière et (C) un agent de réticulation, l'ingrédient (A) étant un copolymère (A1) comprenant un motif structurel (a1) dont le squelette comprend un groupe alicyclique portant un groupe hydroxyalkyle fluoré, un motif structurel (a2) dérivé d'un ester acrylique portant un groupe alkyle hydroxylé, linéaire ou cyclique et portant un groupe fluoroalkyle ou un atome de fluor lié en position a, et enfin un motif structurel (a3) dérivé d'un ester acrylique comprenant un groupe alicyclique portant un groupe hydroxyalkyle fluoré et un groupe fluoroalkyle ou un atome de fluor lié en position a.
(JA) レジストパターンの膨潤を抑制できるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法が提供される。その組成物は、  (A)アルカリ可溶性樹脂成分、(B)露光により酸を発生する酸発生剤成分および(C)架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記(A)アルカリ可溶性樹脂成分が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有する脂環式基を主鎖に有する構成単位(a1)と、水酸基含有鎖状または環状アルキル基を有し、かつα位にフッ素化アルキル基またはフッ素原子が結合しているアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を有する脂環式基を有し、かつα位にフッ素化アルキル基またはフッ素原子が結合しているアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)とを含む共重合体(A1)である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)