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1. (WO2006075535) レーザプラズマEUV光源、ターゲット部材、テープ部材、ターゲット部材の製造方法、ターゲットの供給方法、及びEUV露光装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/075535    国際出願番号:    PCT/JP2005/024221
国際公開日: 20.07.2006 国際出願日: 27.12.2005
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G21K 5/08 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MURAKAMI, Katsuhiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
INOUE, Hideya [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MURAKAMI, Katsuhiko; (JP).
INOUE, Hideya; (JP)
代理人: HOSOE, Toshiaki; Corpo Fuji 605, 3-6, Nishikanagawa 1-chome, Kanagawa-ku, Yokohama-shi Kanagawa 2210822 (JP)
優先権情報:
2005-005425 12.01.2005 JP
発明の名称: (EN) LASER PLASMA EUV LIGHT SOURCE, TARGET MEMBER, PRODUCTION METHOD FOR TARGET MEMBER, TARGET SUPPLYING METHOD, AND EUV EXPOSURE SYSTEM
(FR) SOURCE DE LUMIERE UV EXTREME A PLASMA LASER, ELEMENT CIBLE, PROCEDE DE FABRICATION DE L’ELEMENT CIBLE, PROCEDE DE FOURNITURE DE CIBLES ET SYSTEME D’EXPOSITION A DES UV EXTREMES
(JA) レーザプラズマEUV光源、ターゲット部材、テープ部材、ターゲット部材の製造方法、ターゲットの供給方法、及びEUV露光装置
要約: front page image
(EN)Targets (1) are jetted with their disc directions aligned from a nozzle (2) having a slit-form opening. Targets (1) are carried along on a gas flow. In this example, He gas is used. Targets (1) may be jetted by vibrating the nozzle (2) with a piezoelectric element. Since the outside of the nozzle (2) is kept highly vacuum, targets (1) jetted from the nozzle (2) reach a laser beam irradiation position with their postures kept as they are. In synchronization with the supply of targets (1), a pulse laser beam (5) from a Nd:YAG laser light source (4) is condensed at a lens (3) and applied to targets (1). The spot diameter of laser is 1mm, the same as the diameter of a target (1), and its thickness is up to 1000nm. Accordingly, almost all targets are turned into plasma, thus preventing debris from occurring and enhancing a conversion efficiency.
(FR)Selon la présente invention, des cibles (1) sont éjectées, leurs directions de disque étant alignées, à partir d’une buse (2) ayant une ouverture en forme de fente. Les cibles (1) sont emportées dans un flux gazeux. Dans le présent exemple, du gaz He est utilisé. Les cibles (1) peuvent être éjectées en faisant vibrer la buse (2) avec un élément piézoélectrique. Du fait du vide poussé dans lequel est maintenu l’extérieur de la buse (2), les cibles (1) éjectées par la buse (2) atteignent un lieu d’irradiation par un faisceau laser en gardant telles quelles leurs positions. En synchronisation avec la fourniture de cibles (1), un faisceau laser à impulsions (5) provenant d’une source de lumière laser Nd:YAG (4) est condensé au niveau d’une lentille (3) et appliqué aux cibles (1). Le diamètre du spot laser est de 1 mm, identique au diamètre d’une cible (1) et son épaisseur va jusqu’à 1 000 nm. En conséquence, pratiquement toutes les cibles deviennent du plasma, empêchant ainsi l’apparition de débris et améliorant une efficacité de conversion.
(JA) スリット状の開口を有するノズル2から円板の方向を揃えてターゲット1を噴出する。ターゲット1はガス流に乗せて搬送される。この例ではHeガスを用いている。ピエゾ素子でノズル2を振動させてターゲット1を噴出させてもよい。ノズル2の外部は高真空に保たれているので、ノズル2から放出されたターゲット1は、そのままの姿勢で、レーザ光の照射位置に達する。ターゲット1の供給と同期させてNd:YAGレーザ光源4からパルスレーザー光5をレンズ3で集光してターゲット1へ照射する。レーザのスポット径はターゲット1の直径と同じ1mmとされ、その厚さは1000nm以下である。よって、ターゲットのほぼ全てがプラズマ化され、debrisの発生が抑えられる共に、変換効率が高くなる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)