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1. (WO2006070709) リソグラフィー用洗浄液及びそれを用いた洗浄方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/070709    国際出願番号:    PCT/JP2005/023707
国際公開日: 06.07.2006 国際出願日: 26.12.2005
IPC:
G03F 7/42 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KOSHIYAMA, Jun [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAIRA, Yasumitsu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHINOHARA, Chima [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KOSHIYAMA, Jun; (JP).
TAIRA, Yasumitsu; (JP).
SHINOHARA, Chima; (JP)
代理人: AGATA, Akira; Agata Patent Office, 3rd Floor Ikeden Building 12-5 Shimbashi 2-chome, Minato-ku Tokyo 1050004 (JP)
優先権情報:
2004-382130 28.12.2004 JP
発明の名称: (EN) CLEANING LIQUID FOR LITHOGRAPHY AND METHOD OF CLEANING THEREWITH
(FR) LIQUIDE DE NETTOYAGE POUR LITHOGRAPHIE ET PROCEDE DE NETTOYAGE L'UTILISANT
(JA) リソグラフィー用洗浄液及びそれを用いた洗浄方法
要約: front page image
(EN)A cleaning liquid for lithography that exhibits equally excellent cleaning performance for resists of a wide variety of compositions, such as various resists for i-line, KrF and ArF, silicic resist and chemical amplification type positive resist, and that excels in post-treatment dryability, being free from any deterioration of resist performance by cleaning. There is provided a cleaning liquid for lithography, comprising at least one member (A) selected from among lower alkyl esters of acetic acid and propionic acid and at least one member (B) selected from among ketones having 5 to 7 carbon atoms per molecule in a mass ratio of (A):(B) of 4:6 to 7:3.
(FR)L’invention concerne un liquide de nettoyage pour lithographie qui d’une part fait preuve d’excellentes performances de nettoyage sur des photorésines de compositions très diverses, telles que diverses photorésines pour spectre I, KrF et ArF, photorésine silicique et photorésine positive de type à amplification chimique, et d’autre part présente une excellente aptitude au séchage après traitement, le nettoyage n’altérant aucunement les performances des photorésines. L’invention concerne un liquide de nettoyage pour lithographie comprenant au moins un composant (A) choisi parmi les esters alkyliques inférieurs de l’acide acétique et de l’acide propionique et au moins un composant (B) choisi parmi des cétones ayant de 5 à 7 atomes de carbone par molécule, le rapport massique (A):(B) variant de 4:6 à 7:3.
(JA) 本発明は、i線用、KrF用、ArF用の各種レジスト、ケイ素含有レジスト、化学増幅型ポジ型レジストなど多種多様の組成のレジストに対して一様に良好な洗浄性を示し、処理後の乾燥性が良く、洗浄によりレジストの特性がそこなわれることのないリソグラフィー用洗浄液を提供する。該洗浄液は、(A)酢酸又はプロピオン酸の低級アルキルエステルの中から選ばれた少なくとも1種と(B)1分子中の炭素数5~7のケトンの中から選ばれた少なくとも1種とを(A):(B)の質量比4:6ないし7:3の範囲で含有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)