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World Intellectual Property Organization
1. (WO2006070707) 反射防止膜

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/070707    国際出願番号:    PCT/JP2005/023703
国際公開日: 06.07.2006 国際出願日: 26.12.2005
C08F 299/00 (2006.01)
出願人: JSR CORPORATION [JP/JP]; 5-6-10, Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo 1048410 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TATARA, Ryoji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KATO, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIYAO, Kensuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMADA, Yasuharu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YASHIRO, Takaro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KUROSAWA, Takahiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TATARA, Ryoji; (JP).
KATO, Hitoshi; (JP).
MIYAO, Kensuke; (JP).
YAMADA, Yasuharu; (JP).
YASHIRO, Takaro; (JP).
KUROSAWA, Takahiko; (JP)
代理人: WATANABE, Kihei; Shibashin Kanda Bldg. 3rd Floor 26, Kanda Suda-cho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010041 (JP)
2004-381205 28.12.2004 JP
2005-038233 15.02.2005 JP
2005-038234 15.02.2005 JP
2005-247533 29.08.2005 JP
(JA) 反射防止膜
要約: front page image
(EN)Disclosed is an antireflective film with excellent abrasion resistance and contamination resistance which contains the following components (A) and (B1). (A) A fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated group. (B1) Porous silica particles having an average particle diameter of 5-50 nm which are composed of a hydrolysis product and/or hydrolysis-condensation product of a silicon compound represented by the formula (1) below and another silicon compound represented by the formula (2) below. R1hSiX4-h (1) R2jSiX4-j (2) (In the above formulae, R1 represents an alkyl group having 1-8 carbon atoms; X independently represents an alkoxy group having 1-4 carbon atoms, a halogeno group, an isocyanate group (-N=C=O), a carboxyl group, an alkyloxycarbonyl group having 2-4 carbon atoms or an alkylamino group having 1-4 carbon atoms; h represents an integer of 0-1; R2 represents an alkenyl group having 2-8 carbon atoms, an acryloxyalkyl group having 4-8 carbon atoms or a methacryloxyalkyl group having 5-8 carbon atoms; and j represents an integer of 1-3. In this connection, X in the formula (1) and X in the formula (2) may be the same as or different from each other.)
(FR)L’invention décrit un film antireflet possédant une excellente résistance à l’abrasion et à la contamination et contenant les composants (A) et (B1) suivants : (A) un polymère contenant du fluor et un groupe ayant une insaturation éthylénique ; (B1) des particules de silice poreuses de granulométrie moyenne allant de 5 à 50 nm, composées d’un produit d’hydrolyse et/ou d’un produit de l’hydrolyse-condensation d’un composé de silicium représenté par la formule (1) et d’un autre composé au silicium représenté par la formule (2). R1hSiX4-h (1) R2jSiX4-j (2) (Dans les formules précédentes, R1 représente un groupe alkyle ayant de 1 à 8 atomes de carbone ; X représente indépendamment un groupe alcoxy ayant de 1 à 4 atomes de carbone, un groupe halogéno, un groupe isocyanate (-N=C=O), un groupe carboxyle, un groupe alkyloxycarbonyle ayant de 2 à 4 atomes de carbone ou un groupe alkylamino ayant de 1 à 4 atomes de carbone ; h est un entier égal à 0 ou 1 ; R2 représente un groupe alcényle ayant de 2 à 8 atomes de carbone, un groupe acryloxyalkyle ayant de 4 à 8 atomes de carbone ou un groupe méthacryloxyalkyle ayant de 5 à 8 atomes de carbone ; et j est un entier de 1 à 3. Dans cette configuration, X dans la formule (1) et X dans la formule (2) peuvent être identiques ou différents l’un de l’autre.)
(JA) 下記成分(A)及び(B1): (A)エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、 (B1)下記式(1)で表されるケイ素化合物及び(2)で表されるケイ素化合物の加水分解物及び/又は加水分解縮合物からなり、平均粒径が5~50nmである多孔質シリカ粒子    R SiX4-h ・・・(1)    R SiX4-j ・・・(2) (Rは炭素数1~8のアルキル基、Xはそれぞれ独立に炭素数1~4のアルコキシ基、ハロゲノ基、イソシアネート基(-N=C=O)、カルボキシル基、炭素数2~4のアルキルオキシカルボニル基又は炭素数1~4のアルキルアミノ基、hは0~1の整数を示す。Rは炭素数2~8のアルケニル基、炭素数4~8のアクリロキシアルキル基又は炭素数5~8のメタクリロキシアルキル基、jは1~3の整数を示す。尚、式(1)のX及び式(2)のXは同一であっても異なっていてもよい)を含む耐擦傷性及び耐汚染性に優れた反射防止膜。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)