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1. (WO2006070694) アクリル系共重合ポリマー
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/070694    国際出願番号:    PCT/JP2005/023636
国際公開日: 06.07.2006 国際出願日: 22.12.2005
IPC:
C08F 220/10 (2006.01), C08F 220/06 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HARIMA CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 671-4, Mizuashi, Noguchi-cho, Kakogawa-shi, Hyogo 6750019 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ENDO, Kotaro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ISHIDUKA, Keita [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIRANO, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TANINAKA, Ichiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TSUKUDA, Takahiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ENDO, Kotaro; (JP).
ISHIDUKA, Keita; (JP).
HIRANO, Tomoyuki; (JP).
TANINAKA, Ichiro; (JP).
TSUKUDA, Takahiko; (JP)
代理人: SHOBAYASHI, Masayuki; Takase Bldg. 25-8, Higashi-ikebukuro 1-chome Toshima-ku, Tokyo 1700013 (JP)
優先権情報:
2004-378236 27.12.2004 JP
発明の名称: (EN) ACRYLIC COPOLYMER
(FR) COPOLYMERE ACRYLIQUE
(JA) アクリル系共重合ポリマー
要約: front page image
(EN)It is intended to in a liquid-immersion exposure process, simultaneously prevent any degeneration, represented by bridge, etc., of resist film during the liquid-immersion exposure using water and other various liquid-immersion exposure liquids and any degeneration of liquid-immersion exposure liquids per se, and to without increasing of the number of treatment steps, realize enhancing of the post-exposure storage stability of resist film, and to enable forming of a resist pattern of high resolution through liquid-immersion exposure. Use is made of an acrylic copolymer of the general formula: [Chemical formula 1] wherein R is a hydrogen atom or methyl; R’ is a hydrogen atom, methyl or C1-C4 hydroxyalkyl; R1 is a C1-C15 linear, branched or cyclic alkyl with the proviso that the hydrogen atoms of the alkyl may be partially or wholly substituted with fluorine atom or atoms; R2 is an alicyclic hydrocarbon group; R3 is a linear hydrocarbon group; and each of l, m, n and o is the mol% of structural unit contained, being in the range of 2 to 60 mol%.
(FR)L’invention se situe dans le cadre d’un procédé d’exposition en immersion dans un liquide, au cours duquel on souhaite empêcher d’une part toute dégénérescence, par pontage ou autre, d’un film en photorésine lors de l’exposition en immersion dans un liquide tel que de l’eau ou d’autres liquides divers, et d’autre part toute dégradation dudit liquide lui-même. On souhaite également, sans augmenter le nombre d’étapes de traitement, augmenter la stabilité au stockage du film de photorésine après exposition et pouvoir former un motif en photorésine de résolution élevée via l’exposition en immersion. On utilise un copolymère acrylique de formule générale : [Formule chimique 1] , dans laquelle R est un atome d’hydrogène ou un méthyle ; R’ est un atome d’hydrogène, un méthyle ou un hydroxyalkyle en C1 à C4 ; R1 est un alkyle linéaire, ramifié ou cyclique en C1 à C15, à condition qu’une partie ou que tous les atomes d’hydrogène de l’alkyle soient substitués par des atomes de fluor ou d’autres atomes ; R2 est un groupe hydrocarboné alicyclique ; R3 est un groupe hydrocarboné linéaire ; et l, m, n et o représentent chacun le pourcentage molaire du motif structurel contenu, compris dans l’intervalle allant de 2 à 60 % en mole.
(JA) 液浸露光プロセスにおいて、水を始めとした各種液浸露光用液体を用いた液浸露光中のレジスト膜のブリッジなどに代表される変質および液浸露光用液体自体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加を来すことなく、さらにレジスト膜の引き置き耐性を向上させることができ、液浸露光を用いた高解像性レジストパターンの形成を可能とする。下記一般式(1) 【化1】 (式中、Rは水素原子またはメチル基を示し、R’は水素原子、メチル基、または炭素数1から4のヒドロキシアルキル基を示す。R1は炭素数1から15の直鎖状、分枝状または環状のアルキル基であり、該アルキル基の水素原子の一部または全部がフッ素原子で置換されていてもよい。R2は脂環式炭化水素基、およびR3は鎖式炭化水素基を示し、l、m、nおよびoは各構成単位の含有モル%を示すもので、それぞれ2~60モル%である。)で表されるアクリル系共重合ポリマーを用いる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)