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1. (WO2006070621) 現像処理方法及び現像処理装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/070621    国際出願番号:    PCT/JP2005/023143
国際公開日: 06.07.2006 国際出願日: 16.12.2005
IPC:
G03F 7/32 (2006.01), G03F 7/30 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (米国を除く全ての指定国).
WAKAMIZU, Shinya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MIYAHARA, Osamu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KITANO, Junichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: WAKAMIZU, Shinya; (JP).
MIYAHARA, Osamu; (JP).
KITANO, Junichi; (JP)
代理人: KANEMOTO, Tetsuo; Hazuki International, Shinjuku Akebonobashi Building, 1-12, Sumiyoshi-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 1620065 (JP)
優先権情報:
2004-379807 28.12.2004 JP
2005-346850 30.11.2005 JP
発明の名称: (EN) METHOD OF DEVELOPMENT PROCESSING AND DEVELOPMENT PROCESSING APPARATUS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE DEVELOPPEMENT
(JA) 現像処理方法及び現像処理装置
要約: front page image
(EN)It is intended to prevent any pattern collapse and pattern swelling at the time of drying after development. A developer supply nozzle, while emitting a developer onto a substrate, travels on the substrate from one edge to opposite edge thereof, thereby accomplishing developer supply on the substrate so as to attain static development. Subsequently, while rotating the substrate, a rinse solution is fed onto the substrate to thereby terminate development. Thereafter, a liquid containing a polar fluorocarbon compound is fed onto the substrate, and the substrate is rotated at high speed to thereby dry the same.
(FR)L'invention a pour objet d'empêcher tout effondrement de motif et tout gonflement de motif lors du séchage qui suit le développement. Une buse d'alimentation en révélateur se déplace d'un bord du substrat jusqu'à son bord opposé, en même temps qu'elle délivre du révélateur sur le substrat de manière à effectuer un développement statique. Une solution de rinçage est ensuite amenée sur le substrat en rotation afin de terminer le développement. Puis un liquide contenant un composé fluorocarboné polaire est amené sur le substrat, lequel tourne à grande vitesse de manière à permettre le séchage du liquide.
(JA) 本発明は,現像後の乾燥時に,パターン倒れとパターンの膨潤を防止することを目的としている。本発明においては,現像液供給ノズルが基板に対して現像液を吐出しながら,基板上を一端部から他端部に渡って移動し,基板上に現像液を供給して静止現像する。その後基板を回転させながら,基板にリンス液を供給して現像を停止する。その後極性のあるフッ化炭素系化合物を含有する液体を,基板に供給し,基板を高速回転させて乾燥する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)