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1. (WO2006043597) 感放射線性樹脂組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2006/043597 国際出願番号: PCT/JP2005/019214
国際公開日: 27.04.2006 国際出願日: 19.10.2005
IPC:
G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 〒1048410 東京都中央区築地五丁目6番10号 Tokyo 5-6-10, Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo 1048410, JP (AllExceptUS)
永井 智樹 NAGAI, Tomoki; null (UsOnly)
清水 大輔 SHIMIZU, Daisuke; null (UsOnly)
発明者:
永井 智樹 NAGAI, Tomoki; null
清水 大輔 SHIMIZU, Daisuke; null
代理人:
和気 操 WAKI, Misao; 〒5110233 三重県員弁郡東員町城山一丁目2番6 Mie 2-6, Shiroyama 1 chome Toin-cho Inabe-gun, Mie 511-0233, JP
優先権情報:
2004-30423219.10.2004JP
2004-30423319.10.2004JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS
(JA) 感放射線性樹脂組成物
要約:
(EN) This invention provides a radiation-sensitive resin composition that can form a film stable against water in liquid immersion exposure and can satisfy a focal depth margin. The radiation-sensitive resin composition is used for liquid immersion exposure in which a radiation is applied to a position between a lens and a photoresist film through water and comprises a resin component and an acid generating agent. The resin component is a polymer comprising repeating units containing a hydroxystyrene unit and an acid dissociative group-containing component. 5 to 65% by mole of the total repeating units constituting the polymer is accounted for bythe hydroxystyrene unit, and the hydroxystyrene unit is represented by formula (1) wherein R1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; k and l are each an integer of 1 to 3; and k + l = 5.
(FR) Cette invention concerne une composition de résine sensible aux rayonnements laquelle peut former un film stable vis-à-vis de l'eau lors d'une exposition à un liquide par immersion et peut satisfaire à une marge de distance focale. La composition de résine sensible aux rayonnements est utilisée pour une exposition à un liquide par immersion où un rayonnement est appliqué en un endroit situé entre une lentille et un film photorésistant à travers l'eau et comprend un composant résine et un agent générant de l'acide. Le composant résine est un polymère comprenant des motifs contenant une unité hydroxystyrène et un composant contenant un groupe dissociatif avec un acide. L'unité hydroxystyrène représente 5 à 65 % en mole de la totalité des motifs constituant le polymère et l'unité hydroxystyrène est représentée par la formule (1) (1) dans laquelle R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle ; R2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent ; k et l sont chacun un nombre entier de 1 à 3 ; et k + l = 5.
(JA)  液浸露光時に際して水に安定な被膜となり、焦点深度余裕を満足する。  レンズとフォトレジスト膜との間に水を介して放射線照射する液浸露光に用いられ、樹脂成分と酸発生剤とを含む感放射線性樹脂組成物であって、上記樹脂成分がヒドロキシスチレン単位および酸解離性基含有成分を含む繰返し単位を含有する重合体であり、上記ヒドロキシスチレン単位が、重合体を構成する全繰返し単位に対して、5~65モル%含み、上記ヒドロキシスチレン単位が下記式(1)で表される。  R1は水素原子またはメチル基を表し、R2は水素原子または1価の有機基を表し、kおよびlはそれぞれ1~3の整数であり、かつk+l=5である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)