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1. (WO2006043357) 光学的情報記録媒体及びその製造法
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請求の範囲

[1] 基板上に第 1情報層、中間層、第 2情報層をこの順に備え、第 2情報層側からレー ザ光を入射して情報の記録再生を行う光学的情報記録媒体であって、

いずれの情報層も Te、 O及び M (但し、 Mは Al、 Si、 Ti、 V、 Cr、 Mn、 Fe、 Co、 Ni 、 Cu、 Zn、 Ga、 Ge、 Zr、 Nb、 Mo、 Ru、 Rh、 Pd、 Ag、 In、 Sn、 Sb、 Hf、 Ta、 W、 Re 、 Os、 Ir、 Pt、 Au、 B も選ばれる 1つまたは複数の元素)を含有する材料力もなる 記録層を有し、

前記第 1情報層の材料 Mの組成比を M 1、前記第 2情報層の材料 Mの組成比を M 2 とすると、

M 2 >M 1

の関係を満たすことを特徴とする、光学的情報記録媒体。

[2] 前記記録層は、 1原子%以上 30原子%以下の材料 Mを含むことを特徴とする、請 求項 1に記載の光学的情報記録媒体。

[3] 前記記録層の膜厚が、 lnm以上 50nm以下であることを特徴とする、請求項 1また は 2に記載の光学的情報記録媒体。

[4] 前記第 1及び第 2情報層のうちの一つ以上が、前記記録層の前記基板側及び Zま たは前記基板と反対側に保護層を備えることを特徴とする、請求項 1から 3に記載の 光学的情報記録媒体。

[5] 前記保護層の材料が、 ZnSゝ Si— 0、 Al— 0、 Ti— 0、 Ta— 0、 Zr— 0、 Cr— Oよ り選ばれる少なくとも一つの酸化物、 Ge—N、 Cr—N、 Si—N、 Al—N、 Nb—N、 M o— N、 Ti— N、 Zr—Nより選ばれる少なくとも一つの窒化物、 Ge— C、 Cr— C、 Si— C、 Al—C、 Ti—C、 Zr—C、 Ta—Cより選ばれる少なくとも一つの炭化物、 Si—F、 A 1 F、 Mg— F、 Ca— F、 La— Fより選ばれる少なくとも一つの弗化物、或いはこれら の組み合わせ (例えば ZnS— SiO 2等)であることを特徴とする、請求項 4に記載の光 学的情報記録媒体。

[6] 前記保護層の膜厚が 3nm以上 50nm以下であることを特徴とする、請求項 4または

5に記載の光学的情報記録媒体。

[7] 前記第 1及び第 2情報層のうちの一つ以上が、記録層の前記基板側に反射層を備

えることを特徴とする、請求項 1から 6に記載の光学的情報記録媒体。

[8] 前記反射層の主成分が、 Ag、 Al、 Au、 Si、 Cu、 Ni、 Cr、 TUり選ばれる少なくとも 一つの元素を主成分とする材料力もなることを特徴とする、請求項 7に記載の光学的 情報記録媒体。

[9] 前記反射層の膜厚が、 3nm以上 200nm以下であることを特徴とする、請求項 7ま たは 8に記載の光学的情報記録媒体。

[10] 基板上に第 1情報層、第 2情報層、 · · ·、第 n情報層(但し、 nは 3以上の整数)を、 各々中間層を介してこの順に備え、第 n情報層側からレーザ光を入射して情報の記 録再生を行う光学的情報記録媒体であって、

いずれの情報層も Te、 O及び M (但し、 Mは Al、 Si、 Ti、 V、 Cr、 Mn、 Fe、 Co、 Ni 、 Cu、 Zn、 Ga、 Ge、 Zr、 Nb、 Mo、 Ru、 Rh、 Pd、 Ag、 In、 Sn、 Sb、 Hf、 Ta、 W、 Re 、 Os、 Ir、 Pt、 Au、 B も選ばれる 1つまたは複数の元素)を含有する材料力もなる 記録層を有し、第 1情報層の材料 Mの組成比を M 1、第 2情報層の材料 Mの組成比 を M 2、 · · ·、第 n情報層の材料 Mの組成比を M nとすると、

M η≥· · ·≥Μ 2≥Μ 1かつ Μ 1≠Μ η

の関係を満たすことを特徴とする、光学的情報記録媒体。

[11] 前記記録層は、 1原子%以上 30原子%以下の材料 Μを含むことを特徴とする請求 項 10に記載の光学的情報記録媒体。

[12] 前記記録層の膜厚が、 lnm以上 50nm以下であることを特徴とする請求項 10また は 11に記載の光学的情報記録媒体。

[13] 前記第 1〜第 n情報層のうちの一つ以上が、前記記録層の前記基板側及び Zまた は前記基板と反対側に保護層を備え、

前記保護層は、屈折率 nが 1. 5以上の材料力もなることを特徴とする、請求項 10か ら 12に記載の光学的情報記録媒体。

[14] 前記第 1〜第 n情報層のうちの一つ以上が、前記記録層の前記基板側に反射層を 備え、

前記反射層は、屈折率 nが 2以下かつ消衰係数 kが 2以上の材料力なることを特 徴とする、請求項 10または 13に記載の光学的情報記録媒体。

請求項 1から 14のいずれかに記載の光学的情報記録媒体の製造方法であって、 少なくとも前記記録層を形成した後に、 60°C以上で 5分以上保持するァニール処 理を施すことを特徴とする、光学的情報記録媒体の製造方法。