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1. (WO2006041100) 露光装置及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2006/041100 国際出願番号: PCT/JP2005/018803
国際公開日: 20.04.2006 国際出願日: 12.10.2005
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
渋田 慎 SHIBUTA, Makoto [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
渋田 慎 SHIBUTA, Makoto; JP
代理人:
志賀 正武 SHIGA, Masatake; 〒1048453 東京都中央区八重洲2丁目3番1号 Tokyo 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453, JP
優先権情報:
2004-30163915.10.2004JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置及びデバイス製造方法
要約:
(EN) An exposure apparatus by which damages due to leaked out liquid is prevented from expanding and exposure accuracy and measuring accuracy can be maintained. The exposure apparatus is provided with first and second stages (ST1, ST2) which can independently move within an XY flat plane on an image plane side of a projection optical system (PL); a drive mechanism (SD) which moves the first stage and the second stage together in a status where the stages are brought close to each other or brought into contact with each other; an immersion mechanism (1) which forms a liquid immersion area on an upper plane of at least one of the stages of the first stage and the second stage; and a detecting device (60) which detects liquid leaked out from between the first stage and the second stage.
(FR) L’invention concerne un appareil d’exposition empêchant toute propagation de détérioration due à une fuite de liquide tout en préservant la précision d’exposition et la précision de mesure. L’appareil d’exposition est pourvu d’un premier étage et d’un second étage (ST1, ST2) mobiles de manière indépendante sur un plan plat XY sur un côté plan d’image d’un système optique de projection (PL); un mécanisme d’entraînement (SD) déplaçant le premier étage et le second étage ensemble dans un état permettant de rapprocher les étages ou de les faire se toucher; un mécanisme d’immersion (1) constituant une zone d’immersion liquide sur un plan supérieur d’au moins l’un du premier étage et du second étage; et un dispositif de détection (60) qui détecte toute fuite de liquide entre le premier étage et le second étage.
(JA)  漏出した液体による被害の拡大を防止し、露光精度及び計測精度を維持できる露光装置を提供する。露光装置は、投影光学系(PL)の像面側においてXY平面内で互いに独立して移動可能な第1、第2ステージ(ST1、ST2)と、第1ステージと第2ステージとを近接又は接触した状態で、一緒に移動する駆動機構(SD)と、第1ステージ及び第2ステージの少なくとも一方のステージの上面に液体の液浸領域を形成する液浸機構(1)と、第1ステージと第2ステージとの間から漏れた液体を検出する検出装置(60)とを備えている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020070068339EP1806772JPWO2006041100US20080111978EP2426700JP4488006
KR1020120068877EP3046135EP3306647