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1. (WO2006040949) 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2006/040949 国際出願番号: PCT/JP2005/018138
国際公開日: 20.04.2006 国際出願日: 30.09.2005
IPC:
G03F 7/039 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
東京応化工業株式会社 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 〒2110012 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 Kanagawa 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012, JP (AllExceptUS)
緒方 寿幸 OGATA, Toshiyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
辻 裕光 TSUJI, Hiromitsu [JP/JP]; JP (UsOnly)
松丸 省吾 MATSUMARU, Syogo [JP/JP]; JP (UsOnly)
羽田 英夫 HADA, Hideo [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
緒方 寿幸 OGATA, Toshiyuki; JP
辻 裕光 TSUJI, Hiromitsu; JP
松丸 省吾 MATSUMARU, Syogo; JP
羽田 英夫 HADA, Hideo; JP
代理人:
棚井 澄雄 TANAI, Sumio; 〒1048453 東京都中央区八重洲2丁目3番1号 Tokyo 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453, JP
優先権情報:
2004-29794512.10.2004JP
発明の名称: (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RÉSIST POSITIF POUR EXPOSITION PAR IMMERSION ET PROCÉDÉ DE FORMATION D’UN MOTIF DE RÉSIST
(JA) 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
要約:
(EN) A positive resist composition for immersion exposure which comprises a resin ingredient (A) which comes to have enhanced alkali solubility by the action of an acid and an acid generator ingredient (B) which generates an acid upon exposure to light, characterized in that the resin ingredient (A) comprises a resin (A1) which has alkali-soluble groups (i) having a hydrogen atom and in which the hydrogen atom of part of the alkali-soluble groups (i) has been replaced with an acid-dissociable dissolution-inhibitive group (I) represented by the following general formula (I) [wherein Z represents an alicyclic group; n is an integer of 0-3; andR1 and R2 each independently represents hydrogen or C1-5 alkyl].
(FR) L’invention concerne une composition de résist positif pour exposition par immersion comprenant un ingrédient de résine (A) amené à présenter une solubilité alcaline accrue sous l’effet d’un acide et un ingrédient générateur d’acide (B) qui produit un acide en cas d’exposition à la lumière, caractérisée en ce que l’ingrédient de résine (A) comprend une résine (A1) possédant des groupes solubles en milieu alcalin (i) ayant un atome d’hydrogène et dans laquelle l’atome d’hydrogène d’une partie des groupes solubles en milieu alcalin (i) est remplacé par un groupe inhibiteur de dissolution dissociable d’un acide (I) représenté par la formule générale suivante (I) [où Z représente un groupe alicyclique ; n est un entier de 0 à 3 ; et R1 et R2 représentent chacun indépendamment de l’hydrogène ou un alkyle C1-5].
(JA)  この液浸露光用ポジ型レジスト組成物は、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含む液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、樹脂成分(A)が、水素原子を有するアルカリ可溶性基(i)を有し、かつ該アルカリ可溶性基(i)の一部において、その水素原子が下記一般式(I)[上記式中、Zは脂肪族環式基を表し;nは0または1~3の整数を表し;R、Rはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1~5の低級アルキル基を表す。]で表される酸解離性溶解抑制基(I)で置換されている樹脂(A1)を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物である。                   
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020070061862US20080193871