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1. (WO2006040890) 露光装置及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2006/040890 国際出願番号: PCT/JP2005/016379
国際公開日: 20.04.2006 国際出願日: 07.09.2005
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G01B 11/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/68 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11
光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
68
位置決め,方向決め,または整列のためのもの
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
荒井 大 ARAI, Dai [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
荒井 大 ARAI, Dai; JP
代理人:
志賀 正武 SHIGA, Masatake; 〒1048453 東京都中央区八重洲2丁目3番1号 Tokyo 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453, JP
優先権情報:
2004-29637508.10.2004JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置及びデバイス製造方法
要約:
(EN) There are provided an exposure device including a measurement stage having various measurement devices arranged so as not to reduce the measurement accuracy and a device manufacturing method using the exposure device. The exposure device has a measurement stage provided independently of a wafer state for holding a wafer. A measurement table (MTB) held on the upper surface of the measurement stage includes a reference plate (53) having a first reference mark (FM1) used by a space image measurement device and a second reference mark (FM2) for measuring the positional relationship of the wafer stage with respect to the reticle pattern projected image. The reference plate (53) and the space image measurement device are arranged in the vicinity of a reflection plane (51X) where the beam from the X-axis interferometer is projected and a reflection plane (50) where the beam from the Y-axis interferometer is projected.
(FR) L’invention concerne un dispositif d’exposition englobant un étage de mesure comportant divers dispositifs de mesure disposés pour ne pas réduire la précision de mesure et un procédé de fabrication de dispositif utilisant le dispositif d’exposition. Le dispositif d’exposition possède un étage de mesure indépendant d’un étage de plaquette pour maintenir une plaquette. Une table de mesure (MTB) maintenue à la surface supérieure de l’étage de mesure comporte une plaque de référence (53) ayant une première marque de référence (FM1) utilisée par un dispositif de mesure d’image dans l’espace et une seconde marque de référence (FM2) pour mesurer la relation positionnelle de l’étage de plaquette par rapport à l’image projetée en motif de réticule. La plaque de référence (53) et le dispositif de mesure d’image dans l’espace sont disposés au voisinage d’un plan de réflexion (51X) où le faisceau provenant de l’interféromètre dans l’axe X est projeté et un plan de réflexion (50) où le faisceau provenant de l’interféromètre dans l’axe Y est projeté.
(JA)  計測精度の低下を招かない関係で配置された各種計測器が設けられた計測ステージを備える露光装置、及び当該露光装置を用いたデバイス製造方法を提供する。本発明の露光装置は、ウェハを保持するウェハステージとは独立して設けられた計測ステージを備える。この計測ステージの上面に保持された計測テーブル(MTB)には、空間像計測装置で用いられる第1基準マーク(FM1)と、レチクルのパターンの投影像に対するウェハステージの位置関係を計測するための第2基準マーク(FM2)とが形成された基準板(53)が設けられている。この基準板(53)及び空間像計測装置は、X軸干渉計からのビームが投射される反射面(51X)及びY軸干渉計からのビームが投射される反射面(50)の近傍に配置される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020070063505EP1806771JPWO2006040890US20090213357JP4613910