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1. (WO2006040850) 多価イオン発生源およびこの発生源を用いた荷電粒子ビーム装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2006/040850 国際出願番号: PCT/JP2005/007284
国際公開日: 20.04.2006 国際出願日: 08.04.2005
予備審査請求日: 13.06.2006
IPC:
H01J 27/20 (2006.01) ,H01J 37/08 (2006.01) ,H01J 37/30 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
27
イオンビーム管
02
イオン源;イオン銃
20
粒子の衝撃を利用するもの,例.電離器
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
08
イオン源;イオン銃
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
30
物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管
出願人:
独立行政法人科学技術振興機構 JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY [JP/JP]; 〒3320012 埼玉県川口市本町4-1-8 Saitama 4-1-8, Hon-cho, Kawaguchi-shi, Saitama 3320012, JP (AllExceptUS)
櫻井 誠 SAKURAI, Makoto [JP/JP]; JP (UsOnly)
中嶌 史晴 NAKAJIMA, Fumiharu [JP/JP]; JP (UsOnly)
福本 卓典 FUKUMOTO, Takunori [JP/JP]; JP (UsOnly)
中村 信行 NAKAMURA, Nobuyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
大谷 俊介 OHTANI, Shunsuke [JP/JP]; JP (UsOnly)
益子 信郎 MASHIKO, Shinro [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
櫻井 誠 SAKURAI, Makoto; JP
中嶌 史晴 NAKAJIMA, Fumiharu; JP
福本 卓典 FUKUMOTO, Takunori; JP
中村 信行 NAKAMURA, Nobuyuki; JP
大谷 俊介 OHTANI, Shunsuke; JP
益子 信郎 MASHIKO, Shinro; JP
代理人:
平山 一幸 HIRAYAMA, Kazuyuki; 〒1600022 東京都新宿区新宿2-3-10 新宿御苑ビル6階 Tokyo 6th Floor, Shinjukugyoen Bldg., 2-3-10, Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0022, JP
優先権情報:
2004-29689008.10.2004JP
発明の名称: (EN) MULTIVALENT ION GENERATION SOURCE AND CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS EMPLOYING SUCH GENERATION SOURCE
(FR) SOURCE DE PRODUCTION IONIQUE MULTIVALENTE ET APPAREIL À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES EMPLOYANT UNE TELLE SOURCE DE GÉNÉRATION
(JA) 多価イオン発生源およびこの発生源を用いた荷電粒子ビーム装置
要約:
(EN) An easy-to-manufacture multivalent ion generation source exhibiting excellent operability and maintainability while having a high degree of ionization and a high beam intensity, and a charged particle beam apparatus employing it. The multivalent ion generation source comprises an ion source electrode (3) consisting of an electron source (4), a drift tube (5) to be an ion trap region and a collector (6), a superconducting magnet (11) for trapping ions, ion introduction means (20, 22), a first vacuum container (2) containing the ion source electrode (3), a second vacuum container (10) containing the superconducting magnet (11), and vacuum exhausters (15, 16) respectively arranged for the first and second vacuum containers. The first and second vacuum containers (2, 10) are removable and can easily bake only the ion source electrode (3) requiring extremely high vacuum.
(FR) L’invention concerne une source de production ionique multivalente facile à fabriquer, excellente en matière de manipulation et de maintenance, avec un degré élevé de ionisation et une intensité de faisceau élevée, et un appareil à faisceau de particules chargées utilisant ladite source. La source de production ionique multivalente comprend une électrode à source ionique (3) consistant en une source électronique (4), un tube de migration (5) devant constituer une région de piégeage ionique et un collecteur (6), un aimant supraconducteur (11) pour piéger des ions, un moyen d’introduction ionique (20, 22), un premier conteneur dépressurisé (2) contenant l’électrode à source ionique (3), un second conteneur dépressurisé (10) contenant l’aimant supraconducteur (11), et des circuits de purge de vide (15, 16) disposés respectivement pour le premier conteneur dépressurisé et le second conteneur dépressurisé. Le premier conteneur dépressurisé et le second conteneur dépressurisé (2, 10) sont amovibles et peuvent facilement cuire uniquement l’électrode à source ionique (3) exigeant un vide extrêmement élevé.
(JA) 製造が容易で、操作性及び保守性に優れ、電離度が高く、ビーム強度の大きい多価イオン発生源とそれを用いた荷電粒子ビーム装置であって、多価イオン発生源は、電子源(4)とイオン閉じ込め領域となるドリフトチューブ(5)とコレクタ(6)とからなるイオン源電極(3)と、イオン閉じ込めのための超伝導磁石(11)と、イオン導入手段(20,22)と、さらにイオン源電極(3)を収容した第1の真空容器(2)と、超伝導磁石(11)を収容した第2の真空容器(10)と、第1の真空容器及び第2の真空容器にそれぞれ配設した真空排気装置(15,16)とで成る。第1の真空容器(2)と第2の真空容器(10)は着脱可能であり、極高真空が必要なイオン源電極(3)のみを容易にベーキングできる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
US20080087842