国際・国内特許データベース検索
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1. (WO2006038584) 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法
国内段階移行に関する情報(詳細)
官庁移行日国内番号国内ステータス
日本 26.12.20062006539280
アメリカ合衆国 03.04.200711662631Published: 05.06.2008
Granted: 06.07.2010