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1. WO2006038494 - 透明導電性フィルムおよびタッチパネル

注意: このテキストは、OCR 処理によってテキスト化されたものです。法的な用途には PDF 版をご利用ください。

請求の範囲

[1] 透明なフィルム基材の一方の面にハードコート層を有し、さらに当該ハードコート層 上にドライプロセスにより形成された厚さ 10〜300nmの SiOx膜を有し、透明なフィ ルム基材の他方の面には厚さ 20〜35nmの透明導電性薄膜を有することを特徴と する透明導電性フィルム。

[2] SiOx膜側の水蒸気透過率が 2gZ (m2- 24hr-atm)以下であることを特徴とする請 求項 1記載の透明導電性フィルム。

[3] SiOx膜上に、さらに防汚層を有することを特徴とする請求項 1記載の透明導電性 フイノレム。

[4] 透明なフィルム基材が、 2枚以上の透明なフィルム基材を透明な接着剤層を介して 貼り合わせた積層体であることを特徴とする請求項 1記載の透明導電性フィルム。

[5] 透明導電性薄膜が、インジウムスズ酸ィ匕物力もなる薄膜であることを特徴とする請 求項 1記載の透明導電性フィルム。

[6] SiOx膜の屈折率力 1. 40〜2. 00であることを特徴とする請求項 1記載の透明導 電性フィルム。

[7] SiOx膜は、ハードコート層側から、少なくとも、屈折率 1. 7〜1. 9に調整された Si

Ox膜(1)と屈折率 1. 4〜1. 49に調整された SiOx膜 (2)が、この順で積層されてい ることを特徴とする請求項 6記載の透明導電性フィルム。

[8] SiOx膜は、ハードコート層側から、屈折率 1. 5〜1. 69に調整された SiOx膜 (3)、 屈折率 1. 7〜1. 9に調整された SiOx膜(1)および屈折率 1. 4〜1. 49に調整され た SiOx膜 (2)力この順で 3層積層されていることを特徴とする請求項 6記載の透明 導電性フィルム。

[9] SiOx膜は、ハードコート層側から、屈折率 1. 7〜1. 9に調整された SiOx膜(1)お よび屈折率 1. 4〜1. 49に調整された SiOx膜 (2)が、この順で 2回、合計 4層積層さ れていることを特徴とする請求項 6記載の透明導電性フィルム。

[10] 透明導電性薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜同士が対向するよう に、スぺーサを介して対向配置してなるタツチパネルにぉ、て、

少なくとも一方のパネル板力請求項 1〜9のいずれかに記載の透明導電性フィル

ムであることを特徴とするタツチパネル。