国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2006038392) マイクロレンズの製造方法、及びマイクロレンズ用型の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2006/038392 国際出願番号: PCT/JP2005/015488
国際公開日: 13.04.2006 国際出願日: 19.08.2005
IPC:
G02B 3/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
3
単レンズまたは複合レンズ
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
青柳 和則 AOYAGI, Kazunori [JP/JP]; JP (UsOnly)
高草木 弘 TAKAKUSAGI, Hiroshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
中島 健司 NAKAJIMA, Kenji [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
青柳 和則 AOYAGI, Kazunori; JP
高草木 弘 TAKAKUSAGI, Hiroshi; JP
中島 健司 NAKAJIMA, Kenji; JP
代理人:
細江 利昭 HOSOE, Toshiaki; 〒2210822 神奈川県横浜市神奈川区西神奈川一丁目3番6号 コーポフジ605 Kanagawa Corpo Fuji 605 3-6, Nishikanagawa 1-chome Kanagawa-ku, Yokohama-shi Kanagawa 221-0822, JP
優先権情報:
2004-28556630.09.2004JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING MICROLENS AND METHOD FOR MANUFACTURING DIE FOR MICROLENS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MICROLENTILLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILIÈRE POUR MICROLENTILLE
(JA) マイクロレンズの製造方法、及びマイクロレンズ用型の製造方法
要約:
(EN) At first, resist is applied on a substrate (1) up to the height shown by a double dot chain line (4). The resist (4) is exposed using five masks (5a-5f). Exposure is not effected at all at a part A, and effected only by the mask (5a) at a part B, only by the mask (5b) at a part C, only by the mask (5c) at a part D, only by the mask (5d) at a part E, and only by the mask (5f) at a part F. When exposure is carried out using each mask, it is carried out with luminous exposure depending on the amount of SAG (sensitization amount) in each irradiation area. Since the luminous exposure in each part of A, B, C, D, E, F is different from one another, the resist (4) has a surface shape shown by the line (3) when it is developed and a photoresist microlens having a stepwise shape can be formed.
(FR) Le procédé de l’invention consiste d’abord à appliquer un résist sur un substrat (1) jusqu’à la hauteur indiquée par une ligne à chaîne à deux points (4). Le résist (4) est exposé à l’aide de cinq masques (5a-5f). L’exposition n’est pas réalisée du tout en une partie A, et seulement réalisée par le masque (5a) en une partie B, seulement réalisée par le masque (5b) en une partie C, seulement réalisée par le masque (5c) en une partie D, seulement réalisée par le masque (5d) en une partie E et seulement réalisée par le masque (5f) en une partie F. Lorsque l’exposition réalisée à l’aide de chaque masque, elle est conduite avec une exposition lumineuse dépendant de la quantité de SAG (degré de sensibilisation) dans chaque zone d’irradiation. Comme l’exposition lumineuse dans chaque partie de A, B, C, D, E, F est différente, le résist (4) a une forme superficielle montrée par la ligne (3) lors de son développement et l’on peut obtenir une microlentille de photorésist en forme d’escalier.
(JA)  まず、2点鎖線4で示される高さまで、基板1の上にレジストを塗布する。5枚のマスクマスク5a~5fを用いてレジスト4を露光する。すると、Aの部分では、全く露光が行われず、Bの部分ではマスク5aのみ、Cの部分ではマスク5bのみ、Dの部分ではマスク5cのみ、Eの部分ではマスク5dのみ、Fの部分ではマスク5fのみによる露光が行われる。各マスクを用いた露光に際しては、各照射領域のSAG量(感光量)に応じた露光量で露光を行う。この結果、A、B、C、D、E、Fの各部分による露光量が異なることになり、この違いにより、レジスト4を現像したときに、レジストの表面形状が3で示されるような表面形状となり、階段状の形状を有するフォトレジストマイクロレンズが形成できる。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)