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1. (WO2006035571) 高純度液化塩素の製造方法
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1 . 塩素酸化物を不純物として含む原料塩素を精製することによ り高純度液化塩素を製造する方法において、 原料塩素に光を照射し て塩素酸化物不純物を光分解によつて塩素と酸素に分解する光分解 工程と、光分解生成物およびその他の不純物を蒸留によって除去す る蒸留工程とを含むこと請を特徴とする高純度液化塩素の製造方法。

2 . 塩素酸化物不純物の濃度が 0 . l〜 5 0 p p mである、請求 項 1 に記載の高純度液化塩素の製の造方法。

3 . 塩素酸化物不純物が二酸化塩素である、請求項 1 または 2に 記載の高純度液化塩素の製造方法。 囲

4 . 光分解工程の光源が、 3 0 0〜 5 0 0 n mの範囲の波長を含 む光源である、請求項 1〜 3のいずれかに記載の高純度液化塩素の 製造方法。

5 . 原料塩素を光分解工程の前に気化器により気化させ、光分解 工程において気相で光分解反応を行う、 請求項 1 〜 4のいずれかに 記載の高純度液化塩素の製造方法。

6 . 光分解工程における光分解反応が、流通式での光分解反応で ある、請求項 1 〜 5のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法

7 . 光分解工程における光分解反応の温度が 2 0〜 6 0 °Cである 、請求項 1〜 6のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。

8 . 光分解工程における光分解反応の圧力が 0 . 0 1 〜 1 . 5 M P aである、請求項 1〜 7のいずれかに記載の高純度液化塩素の製 造方法。

9 . 蒸留工程が、光分解工程で生成した酸素を含む低沸点不純物 を除去する低沸蒸留工程を含む、 請求項 1 に記載の高純度液化塩素 の製造方法。

1 0 . 高純度液化塩素の純度が 9 9 . 9 9 9 %以上である、請求 項 1〜 9のいずれかに記載の高純度液化塩素の製造方法。