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1. (WO2006030953) 基板洗浄処理装置及び基板処理ユニット
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/030953    国際出願番号:    PCT/JP2005/017318
国際公開日: 23.03.2006 国際出願日: 14.09.2005
IPC:
H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01)
出願人: EBARA CORPORATION [JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho, Ohta-ku, Tokyo 1448510 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YOKOYAMA, Toshio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KATSUOKA, Seiji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OGAWA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMADA, Kaoru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MAEDA, Kazuaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YOKOYAMA, Toshio; (JP).
KATSUOKA, Seiji; (JP).
OGAWA, Takahiro; (JP).
YAMADA, Kaoru; (JP).
MAEDA, Kazuaki; (JP)
代理人: WATANABE, Isamu; GOWA Nishi-Shinjuku 4F, 5-8, Nishi-Shinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
優先権情報:
2004-271875 17.09.2004 JP
2005-247070 29.08.2005 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE CLEANING TREATMENT APPARATUS AND SUBSTRATE TREATMENT UNIT
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT NETTOYANT DE SUBSTRATS ET UNITE DE TRAITEMENT DE SUBSTRATS
(JA) 基板洗浄処理装置及び基板処理ユニット
要約: front page image
(EN)A substrate cleaning treatment apparatus does not require positioning of a transfer system for start up and reduces an apparatus installation area. In the substrate cleaning treatment apparatus, one base-integrated frame (1) is provided with a substrate transfer apparatus (2) for transferring substrates, at least one substrate treatment unit (3) for performing substrate treatment, a substrate load port (5) for loading a substrate storing cassette (4), and a treatment solution supplying apparatus (6) for supplying the substrate treatment unit (3) with a treatment solution. Maintenance of the substrate treatment unit (3) can be performed from the rear plane of the apparatus.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement nettoyant de substrats qui n'exige aucun positionnement d'un système de transfert pour le démarrage et réduit la surface d'installation d'un appareil. Dans un appareil de traitement nettoyant de substrats, un cadre à base intégrée (1) est doté d'un appareil de transfert de substrats (2) destiné à transférer des substrats, d'au moins une unité de traitement de substrats (3) destinée à réaliser le traitement des substrats, d'un orifice de chargement de substrats (5) destiné au chargement d'une cassette (4) à substrat, et d'un appareil (6) d'application de solution de traitement destiné à fournir une solution de traitement à l'unité de traitement de substrats (3). La maintenance de l'unité de traitement de substrats (3) peut être réalisée depuis la face arrière de l'appareil.
(JA)基板洗浄処理装置は、装置の立上げに際して搬送系統の位置決めが必要でなく、装置の設置面積の減少が可能である。この基板洗浄処理装置は、ベース一体型の1つのフレーム(1)に、基板を搬送する基板搬送装置(2)と、基板の処理を行なう少なくとも1つの基板処理ユニット(3)と、基板収納カセット(4)を載置する基板ロードポート(5)と、基板処理ユニット(3)へ処理液を供給する処理液供給装置(6)を搭載し、基板処理ユニット(3)のメンテナンスは装置背面から実施できるように構成されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)