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1. (WO2006030908) 基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/030908    国際出願番号:    PCT/JP2005/017173
国際公開日: 23.03.2006 国際出願日: 16.09.2005
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIBUTA, Makoto [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKANO, Katsushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YOSHIDA, Yuichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKAIWA, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAGASAKA, Hiroyuki; (JP).
SHIBUTA, Makoto; (JP).
NAKANO, Katsushi; (JP).
YOSHIDA, Yuichi; (JP).
TAKAIWA, Hiroaki; (JP)
代理人: SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2004-271634 17.09.2004 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE MAINTIEN DE SUBSTRAT, APPAREIL D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法
要約: front page image
(EN)A substrate holding apparatus which can prevent a liquid from entering into a rear plane side of a substrate. The substrate holding apparatus (PH) is provided with a base material (PHB), a first holding part (PH1) formed on the base material (PHB) for holding the substrate (P), and a second holding part (PH2) formed on the base material (PHB) for holding a plate member (T) by surrounding the circumference of the processing substrate (P) held by the first holding part (PH1). The second holding part (PH2) holds the plate member (T) so as to form a second space (32) on the side of the rear plane (Tb) of the plate member (T). On the rear plane (Tb) of the plate member (T), an absorbing member (100) is arranged for absorbing the liquid (LQ) entered from a gap (A) between the substrate (P) held by the first holding part (PH1) and the plate member (T) held by the second holding part (PH2).
(FR)L’invention porte sur un appareil de maintien de substrat susceptible d’empêcher un liquide de pénétrer dans un plan arrière d’un substrat. L’appareil de maintien de substrat (PH) est muni d’un matériau de base (PHB), d’une première pièce de maintien (PH1) formée sur le matériau de base (PHB) pour maintenir le substrat (P) et d’une seconde pièce de maintien (PH2) formée sur le matériau de base (PHB) pour maintenir un élément à plaque (T) en entourant la circonférence du substrat de traitement (P) maintenu par la première pièce de maintien (PH1). La seconde pièce de maintien (PH2) maintient l’élément à plaque (T) de façon à constituer un second espace (32) sur le côté du plan arrière (Tb) de l’élément à plaque (T). Sur le plan arrière (Tb) de l’élément à plaque (T), un élément absorbant (100) est disposé pour absorber le liquide (LQ) ayant pénétré dans un interstice (A) pratiqué entre le substrat (P) maintenu par la première pièce de maintien (PH1) et l’élément à plaque (T) maintenu par la seconde pièce de maintien (PH2).
(JA) 基板の裏面側への液体の浸入を防止できる基板保持装置を提供する。基板保持装置(PH)は、基材(PHB)と、基材(PHB)に形成され、基板(P)を保持する第1保持部(PH1)と、基材(PHB)に形成され、第1保持部(PH1)で保持された処理基板(P)の周囲を囲むようにプレート部材(T)を保持する第2保持部(PH2)とを備えている。第2保持部(PH2)は、プレート部材(T)の裏面(Tb)側に第2空間(32)が形成されるようにプレート部材(T)を保持している。プレート部材(T)の裏面(Tb)には、第1保持部(PH1)で保持された基板(P)と第2保持部(PH2)で保持されたプレート部材(T)との間のギャップ(A)から浸入した液体(LQ)を吸収する吸収部材(100)が配置されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)