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1. (WO2006030604) レジスト組成物、レジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/030604    国際出願番号:    PCT/JP2005/015165
国際公開日: 23.03.2006 国際出願日: 19.08.2005
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKAGAWA, Yusuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIDESAKA, Shinichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAYAMA, Kazuhiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKAGAWA, Yusuke; (JP).
HIDESAKA, Shinichi; (JP).
NAKAYAMA, Kazuhiko; (JP)
代理人: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2004-266055 13.09.2004 JP
2005-226487 04.08.2005 JP
発明の名称: (EN) RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
(FR) FORMULATION DE MATÉRIAU DE PROTECTION POUR APPAREILLAGE ÉLECTRIQUE ET MÉTHODE DE CONFIGURATION DE CE MATÉRIAU
(JA) レジスト組成物、レジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a resist composition obtained by dissolving a resin component (A) whose alkali solubility is changed by the action of an acid, an oxime sulfonate acid generator (B), an amine compound (D) having at least one alkyl group having 5-12 carbon atoms and an organic acid (E) in an organic solvent (C) containing methyl-n-amylketone. The organic acid (E) component is composed of a dibasic acid.
(FR)La présente invention décrit une formulation de matériau de protection pour appareillage électrique obtenu en dissolvant dans un solvant organique (C) contenant de la méthyl-n-amylcétone : une résine (A), dont la solubilité en milieu basique est modifiée par l'action d'un acide ; un précurseur d’acide de type sulfonate d’oxime (B) ; un dérivé d’amine (D) qui porte au moins un groupement alkyle comprenant entre 5 et 12 atomes de carbone ; et un acide organique (E). L’acide organique (E) inclut un diacide.
(JA) このレジスト組成物は、(A)酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分と、(B)オキシムスルホネート系酸発生剤と、(D)炭素数5~12のアルキル基を少なくとも1以上有するアミン化合物と、(E)有機酸をメチル-n-アミルケトンを含有する有機溶剤(C)に溶解してなり、前記(E)成分が2塩基酸である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)