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1. (WO2006028014) レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2006/028014    国際出願番号:    PCT/JP2005/016113
国際公開日: 16.03.2006 国際出願日: 02.09.2005
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HIRAYAMA, Taku [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHIONO, Daiju [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HADA, Hideo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HIRAYAMA, Taku; (JP).
SHIONO, Daiju; (JP).
HADA, Hideo; (JP)
代理人: TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 1048453 (JP)
優先権情報:
2004-260764 08.09.2004 JP
発明の名称: (EN) RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERNS
(FR) COMPOSITION DE RÉSIST ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS DE RÉSIST
(JA) レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
要約: front page image
(EN)A resist composition which comprises (A) a base component that has acid-dissociable dissolution-inhibiting groups and can be increased in the alkali solubility by the action of acid, (B) an acid generating component that can generate an acid on being exposed to light, and (C) an organic solvent and which is obtained by dissolving the components (A) and (B) in the solvent (C), characterized in that the component (A) contains (A1) a blocked polyhydric phenol derived from (a) a polyhydric phenol which bears two or more phenolic hydroxyl groups and has a molecular weight of 300 to 2500 by blocking the phenolic hydroxyl groups partially or completely with acid-dissociable dissolution-inhibiting groups and that the solvent (C) contains an alcohol.
(FR)La présente invention concerne une composition de résist qui comprend (A) un composant de base qui a des groupes inhibiteurs de dissolution dissociables dans un acide et dont la solubilité alcaline peut être augmentée par l’action d’un acide, (B) un composant générateur d’acide qui peut générer un acide à la suite d’une exposition à la lumière, et (C) un solvant organique, qui est obtenue en dissolvant les composants (A) et (B) dans le solvant (C), et caractérisée en ce que le composant (A) contient (A1) un phénol polyhydrique bloqué dérivé de (a) un phénol polyhydrique qui porte deux groupes hydroxyle phénoliques ou plus et qui a un poids moléculaire de 300 à 2500 en bloquant les groupes hydroxyle phénoliques partiellement ou complètement avec des groupes inhibiteurs de dissolution dissociables dans un acide et en ce que le solvant (C) contient un alcool.
(JA)  酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含み、前記成分(A)及び(B)を有機溶剤(C)に溶解してなるレジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、2以上のフェノール性水酸基を有しかつ分子量が300~2500である多価フェノール化合物(a)の前記フェノール性水酸基の一部または全部が酸解離性溶解抑制基により保護された保護体(A1)を含有し、前記有機溶剤(C)がアルコールを含有することを特徴とするレジスト組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)